铪管(Hf)

高纯铪管由99.9%铪制成,具高熔点与优异的中子吸收能力,适用于核能、真空系统及高温结构件。可定制尺寸、纯度与表面处理,满足科研及高端制造需求。

描述

铪管(Hf Tube)

产品简介

铪管(Hf Tube)是一种由高纯铪(Purity ≥ 99.9%)制成的难熔金属管材,具有极高的熔点(2227°C)、优异的耐腐蚀性能和出色的吸中子能力。铪金属在高温、真空及核能环境中表现出极强的稳定性,广泛用于核反应堆控制棒、高温炉部件及真空镀膜设备。高纯铪管也是半导体和薄膜沉积系统中常用的精密部件材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的铪管采用高纯铪粉经冷等静压(CIP)—真空烧结—热等静压(HIP)—精密加工工艺制备,结构致密、纯度高、表面光洁。所有产品均符合 ASTM B737 标准。

典型规格如下:

  • 纯度等级:99.5%、99.9%、99.95%

  • 外径范围:3 – 80 mm

  • 壁厚范围:0.5 – 5 mm

  • 长度:≤1000 mm(可定制)

  • 制造工艺:CIP + 真空烧结 + HIP + 精密车削 + 抛光

  • 表面状态:亮灰色金属光泽 / 抛光 / 去氧化膜

高纯铪管在高温真空及腐蚀性环境下长期稳定,适用于核能、化工、真空与电子应用。

应用领域

铪管凭借优异的耐热与吸中子性能,被广泛应用于:

  • 核能工业:用于控制棒、反应堆结构件及中子吸收元件。

  • 真空系统:用于高纯导管与高温结构部件。

  • 电子与半导体:用于PVD溅射、蒸发源及薄膜沉积设备。

  • 化工设备:输送强酸碱及氯化物介质。

  • 科研与高温实验:用于高温反应管、加热套与蒸发腔体。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.5% – 99.95% 高纯度确保稳定结构
密度 13.31 g/cm³ 组织致密、无气孔
熔点 2227 °C 极高耐热性
抗拉强度 ≥750 MPa 高温下仍保持强度
热导率 23 W/m·K 稳定导热性能
热膨胀系数 6.4 × 10⁻⁶ /K 热稳定性优良
工艺 CIP + HIP + 精加工 提高密度与机械强度

常见问题(FAQ)

问题 答案
铪管是否适用于真空系统? 是的,铪具有极低蒸气压和气体释放率,非常适合真空环境。
铪管能否耐高温? 可在2000°C以上长期稳定使用。
是否具磁性? 无磁性,适合磁场敏感设备。
可否用于核能领域? 可以,铪是优秀的中子吸收材料。
能否定制尺寸? 可根据客户图纸加工。
可否与其他金属焊接? 可采用电子束焊或真空钎焊。
是否提供抛光表面? 可提供镜面或亚光处理。
可否制作毛细管? 可以,最小内径可达0.5 mm。
是否提供检测报告? 提供纯度、密度与显微组织检测报告。
交货时间? 常规2–4周,定制产品视图纸而定。

包装与交付

每根铪管出厂前均经过显微检测与尺寸校准。产品采用真空密封、防氧化包装,外层防震防潮木箱封装。提供RoHS、REACH、COC及材质检测文件。

结论

铪管(Hf Tube)以其高熔点、高强度和出色的抗腐蚀特性,是核能、真空及高温系统中不可替代的结构材料。
如需了解更多技术参数或报价,请联系:sales@keyuematerials.com

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.