铟丝(In)

高纯铟丝(In Wire)柔软且延展性极佳,适用于真空密封、电极连接及焊接封装。纯度可达99.999%,表面光亮无氧化层,支持定制直径与长度。

描述

铟丝(In Wire)

产品简介

铟丝(In Wire)是一种由高纯铟(Purity ≥ 99.9%)制成的柔软金属丝材,具有优异的延展性、可焊性和密封性。铟在常温下质地柔软,易于成形并能与多种材料(如玻璃、金属、陶瓷)良好结合,因此被广泛用于真空密封、电气连接、焊接封装及半导体工艺等领域。
高纯铟丝是真空系统和光电器件中不可或缺的密封与导电材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯铟丝采用高纯铟锭熔炼—真空提纯—挤压拉丝—低温退火工艺制备。产品纯度高、表面光滑、延展性极佳,无氧化层或夹杂物,适合真空级及电子级使用。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.99%、99.999%

  • 直径范围:0.25 – 5.0 mm(可定制)

  • 形态:卷丝 / 直丝 / 环形线

  • 制造工艺:真空熔炼 + 挤压成形 + 精密拉丝 + 抛光

  • 表面状态:银白光亮 / 柔软无裂纹 / 无氧化层

铟丝质地极为柔软,可手工成形而不断裂,非常适用于真空密封垫圈或精密焊接工艺。

应用领域

铟丝以其独特的物理特性和高纯度,被广泛用于:

  • 真空系统密封:用于UHV、CF法兰密封圈、窗口封装。

  • 半导体与光电制造:用于芯片封装与导电焊接。

  • 低温与热界面材料:用于冷头、探测器热传导界面。

  • 电接触材料:用于电子器件与电极连接。

  • 真空蒸发与镀膜:可作为金属蒸发源。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.999% 高纯度保证密封与导电效果
密度 7.31 g/cm³ 柔软致密,无气孔
熔点 156.6 °C 低熔点,适合焊接与封装
电导率 11.5 × 10⁶ S/m 稳定导电性
延展性 极高 可轻松拉伸与成形
抗腐蚀性 对空气与水分稳定
硬度 很低 易塑形,适合密封应用

常见问题(FAQ)

问题 答案
铟丝是否易断? 不易断,具有极高延展性。
可否用于真空密封? 是的,是CF/UHV法兰常用密封材料。
是否适合焊接? 可用于低温焊接与封装。
是否可定制规格? 可按客户需求提供不同直径与长度。
是否具磁性? 无磁性。
可否用于光学器件? 可用于真空封装镜片与红外窗口。
是否附检测报告? 提供纯度、尺寸及外观检测报告。
是否支持科研样品? 支持科研小量与批量生产。
是否符合RoHS标准? 是的,完全符合RoHS与REACH要求。
储存要求? 常温干燥密封保存,避免长期空气暴露。

包装与交付

所有铟丝出厂前均经真空退火与表面检测。产品采用防氧化真空密封包装,外层防潮泡沫保护,可根据客户需求提供线盘或线圈形式。附RoHS、REACH、COC及纯度检测报告。

结论

铟丝(In Wire)以其柔软性、高纯度和优异密封性能,广泛应用于真空系统、电子封装与科研实验。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.