铝钕靶材（AlNd）

产品简介（Introduction）

铝钕靶材（AlNd）由铝（Al）与钕（Nd）组成，是一种用于磁性薄膜、光电器件、微电子结构层以及先进功能涂层的稀土合金溅射靶材。
AlNd 薄膜具有优异的电学稳定性、良好的膜附着力、可调磁性、优秀的抗氧化能力和较高的热稳定性，在磁性材料、光电子器件、薄膜封装、导电功能层等领域受到广泛关注。

钕作为稀土元素可提升薄膜的磁性调控、氧化稳定性和微结构均匀性，而铝提供轻质、抗腐蚀与良好导电能力，使 AlNd 成为兼具电学、耐腐蚀和磁性调控能力的多功能材料。

产品详情（Detailed Description）

铝钕靶材采用高纯铝和高纯钕原料，经真空熔炼、粉末冶金（PM）、冷等静压（CIP）、热等静压（HIP）和精密机加工制备，确保：

• 成分分布均匀，不偏析

• 高致密度（≥97%）

• 低氧含量，减少薄膜针孔

• 溅射稳定性强，颗粒低

• 可根据应用需求定制成分比例

常见成分配比：

• Al90Nd10

• Al85Nd15

• Al80Nd20

• 可根据磁性、电阻率需求定制

标准规格：

• 纯度：99.5%–99.99%

• 直径：Φ25–Φ300 mm

• 厚度：3–6 mm（可进一步定制）

• 形状：圆形靶 / 矩形靶

• 背板结合：Cu 背板、Ti 背板、In 焊

核心性能优势：

• 优秀的氧化稳定性

• 磁性可调，可形成弱磁或中等磁性薄膜

• 低应力薄膜优异

• 膜层致密、附着力强

• 适合高频、光学与电子结构应用

应用领域（Applications）

磁性薄膜与传感器

• 软磁薄膜

• 磁性调控层

• 稀土磁电器件

• 磁阻传感器结构

光电薄膜与透明电子

• 光学调控层

• 透明薄膜电子器件

• 高稳定性封装层

• 光电界面材料

微电子与金属功能层

• 导电层 / 粘附层

• 阻挡层

• 可调电阻薄膜结构

先进材料与科研用途

• 稀土掺杂薄膜研究

• 磁学、电学复合调控实验

• 新型功能薄膜设计探索

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

1. AlNd 是否适用于 RF 与 DC 溅射？
是的，可兼容 RF、DC 与磁控溅射。

2. 薄膜磁性是否可通过 Nd 含量调控？
可以，Nd 增加可增强磁性与结构稳定性。

3. 是否支持大尺寸靶材？
完全支持 4″、6″、8″、12″ 及矩形靶。

4. AlNd 会氧化吗？
Nd 的加入反而能形成稳定氧化层，提高薄膜整体抗氧化能力。

5. 是否提供检测报告？
可提供 ICP、XRF、密度、显微结构等报告。

包装与交付（Packaging）

• 真空密封防氧化

• 防震泡棉保护

• 纸箱 / 木箱出口包装

• 独立批次编号可追溯

结论（Conclusion）

铝钕靶材（AlNd）是一种兼具稀土调控、高稳定性和可调磁性的多功能靶材。其薄膜适用于磁性、光学、微电子与先进功能材料的研究与工程应用。
苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密度、成分可定制的 AlNd 溅射靶材，稳定可靠，适用于科研和产业化生产。

如需报价或更多技术信息，请联系：
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