铝粉(Al)

描述

铝粉(Al)

产品简介

铝粉(Aluminum Powder,化学式 Al)是一种轻质、高导电、高反射率的金属粉末材料。
它以其 优异的导电性、导热性与化学活性,被广泛应用于 导电涂层、燃烧剂、热喷涂、粉末冶金、颜料与科研实验 等领域。

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度(99.7%–99.99%)铝粉,颗粒形貌可选 球形、片状或不规则形态,氧含量低、流动性好,适用于高精度制造与实验研究。


产品详情

铝粉呈 银白色至灰银色金属粉末,具有光亮金属反光与优良的流动性。
采用 雾化法机械球磨法 制备,颗粒分布均匀,可根据应用需求定制不同粒径与形貌。

主要特点:

  • 轻质高导电性(金属中仅次于铜)

  • 化学活性高,可用于热反应体系

  • 优良的热反射与红外屏蔽性能

  • 高纯度、氧含量低、表面均匀

  • 可用于3D打印与涂层喷涂工艺。


应用领域

  • ⚙️ 粉末冶金与合金制备:用于铝基合金、轻质结构件;

  • 💡 导电与热导材料:用于导电浆料、电极与散热组件;

  • 🔥 燃烧剂与热反应材料:用于火箭推进剂、铝热反应体系;

  • 🎨 颜料与装饰涂料:用于金属银漆与铝粉涂层;

  • 🧪 科研与实验材料:用于能量材料研究与金属氧化反应实验。


技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
化学式 Al 轻质金属粉末
纯度 99.7% – 99.99% 高纯材料级
外观 银白色金属粉末 光亮细腻
粒径范围 1 – 100 μm(可定制) 影响导电与燃烧性能
制备方法 雾化 / 球磨 / 气相冷凝 成分与形貌可控
密度 2.70 g/cm³ 轻质金属
熔点 660°C 加工性优
电导率 3.7×10⁷ S/m 优异导电性
热导率 235 W/m·K 热传导性能好
比表面积 0.1 – 5 m²/g 与粒径相关

相关材料对比

材料 主要优势 典型应用
Al(铝) 轻质导电、反射率高 涂层、导电材料
Cu(铜) 导电性更高 导体与电极
Ag(银) 导电与反射性能极优 光学镀膜、电极
Mg(镁) 超轻金属、活性高 能量与合金材料

常见问题(FAQ)

问题 答案
铝粉的主要用途是什么? 导电、燃烧剂、颜料、冶金与科研。
是否导电? 是的,铝粉具有高导电性。
是否易氧化? 表面会形成致密氧化膜,稳定性较好。
是否可用于3D打印? 可,使用球形雾化铝粉。
是否可定制粒径? 可提供 1–150 μm 不同规格。
是否可用于热反应? 可,用于铝热剂与燃烧反应体系。
熔点是多少? 660°C。
是否环保? 无毒、可回收,符合 RoHS 与 REACH。
是否易燃? 细粉遇空气可燃,应在惰性气氛中储存。
包装方式? 真空密封、防潮铝箔袋或瓶装。

包装与交付

所有铝粉出厂前均经过 ICP 杂质分析、粒度分布与O/N 含量测试
采用 真空密封 + 防潮铝箔袋包装,防止氧化与团聚。
提供 100 g、500 g、1 kg、25 kg 等规格,支持科研与工业批量供应。


结论

铝粉以其 轻质高导电、高反射与良好化学活性,在电子、能源、颜料与冶金领域中扮演关键角色。
苏州科跃材料科技有限公司可提供多种形貌、纯度与粒径的高性能铝粉,满足科研与高端制造需求。

📩 如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.