铝管(Al)

高纯铝管质轻、导热性优异、耐腐蚀,适用于散热结构、真空系统及科研实验。纯度可达99.99%,可定制尺寸与表面处理,是轻量化与导热系统的理想材料。

描述

铝管(Al Tube)

产品简介

铝管(Al Tube)是一种由高纯铝或铝合金制成的轻质金属管材,具有极高的导热性、导电性和优良的耐腐蚀性。铝密度仅为2.70 g/cm³,约为钢的三分之一,是理想的轻量化结构材料。其表面可形成致密氧化膜,增强防护性能。高纯铝管广泛应用于科研实验、电子元件、散热结构、航空航天及新能源设备中。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的铝管采用高纯铝锭经热挤压—冷拉—退火—抛光工艺制成。产品壁厚均匀、尺寸精确、表面光洁,适用于科研及工业级应用。
可提供纯铝及多种高性能合金(如1060、3003、5052、6061、7075等)。

典型规格如下:

  • 纯度等级:99.7%、99.9%、99.99%

  • 外径范围:3 – 150 mm

  • 壁厚范围:0.3 – 10 mm

  • 长度:≤3000 mm(可定制)

  • 制造工艺:热挤压 + 冷拉 + 真空退火 + 表面抛光

  • 表面状态:亮光 / 亚光 / 阳极氧化 / 本色氧化

应用领域

铝管因其轻质与高导热性被广泛用于:

  • 电子与半导体行业:作为散热结构、导流管与电气连接元件。

  • 航空航天:用于轻量化结构部件与管路系统。

  • 新能源设备:电池冷却系统与导热装置。

  • 科研实验:用于真空腔体、反应管与支撑件。

  • 建筑与装饰领域:高强度结构件与耐腐蚀外壳。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.7% – 99.99% 高纯度确保导电与耐蚀性
密度 2.70 g/cm³ 轻质高强结构材料
熔点 660.3 °C 可在中温环境使用
导热率 237 W/m·K 极佳的散热性能
电导率 36 × 10⁶ S/m 优良的电导性能
抗拉强度 90 – 200 MPa(纯铝) 高强合金可达350 MPa 以上
表面处理 抛光 / 阳极氧化 / 防指纹 增强外观与耐蚀性

常见问题(FAQ)

问题 答案
铝管是否易氧化? 铝表面会形成稳定氧化膜,可进一步阳极化处理增强防腐。
是否可用于导热应用? 可以,铝导热性能极佳,常用于散热系统。
可否定制合金型号? 是的,可根据强度与耐蚀性需求定制合金。
能否制作毛细管? 可定制最小内径0.5 mm的高纯毛细管。
铝管能否焊接? 可进行氩弧焊或激光焊。
可否电镀或涂层? 可进行阳极氧化、喷涂或电镀处理。
是否具磁性? 无磁性,适用于磁场敏感设备。
可否用于真空系统? 可以,高纯铝经退火处理后具有极低气体释放率。
可否提供镜面表面? 可提供机械抛光或电解抛光版本。
是否附带检测报告? 每批产品均附化学成分、尺寸与表面检测报告。

包装与交付

每根铝管均经过尺寸与表面检测,采用真空密封与防震包装,外层防潮木箱封装,确保运输安全。提供RoHS、REACH及材质证明文件,支持科研小批量与批量供货。

结论

铝管(Al Tube)以其轻质、高导热与耐腐蚀特性,广泛应用于科研、电子、能源及航空领域。
如需了解更多技术参数或报价,请联系:sales@keyuematerials.com

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.