铝板(Al)

描述

铝板(Aluminum Plate, Al Plate)

产品简介

铝板(Al Plate)是一种由高纯铝(Purity ≥ 99.9%)制成的轻质金属板材,具有优异的导热性、导电性、耐腐蚀性和可加工性。
凭借其出色的物理性能与化学稳定性,铝板被广泛应用于电子、航空航天、真空设备、能源、光学反射及科研实验等领域。


产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯铝板采用真空熔炼—热轧—退火—精抛光工艺制造,板面平整、晶粒均匀、表面光洁。
产品符合 ASTM B209 / GB/T 3190 / ISO 9001 标准,可提供工业级、电子级与科研级版本。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.99%、99.999%

  • 厚度范围:0.2 – 30 mm

  • 尺寸范围:≤ 1000 × 1000 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空熔炼 + 热轧 + 退火 + 抛光

  • 表面状态:银白色 / 光亮抛光 / 无氧化层


性能特点

  • 重量轻:密度仅为2.70 g/cm³,重量约为钢的三分之一。

  • 高导电导热性:适用于散热片、电极与导电系统。

  • 优异耐腐蚀性:表面形成致密Al₂O₃膜防止氧化。

  • 良好延展性与加工性:可轻松切割、冲压、弯折和焊接。

  • 无磁性与高反射性:在电子与光学系统中性能突出。


应用领域

  • 电子与电气:用于电极、导电片、散热基板。

  • 航空航天:结构部件、真空设备与轻量化元件。

  • 光学与反射系统:镜面反射与光学镀膜基材。

  • 能源与热管理:散热器、太阳能模块与电池外壳。

  • 科研与实验:真空腔体、靶材基板、样品载片。


技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9–99.999% 高纯铝材料
密度 2.70 g/cm³ 轻质结构金属
熔点 660.3 °C 中温熔融金属
电导率 37.7 × 10⁶ S/m 极佳导电性
热导率 237 W/m·K 优异散热性能
抗拉强度 60–200 MPa 随状态可调
延伸率 20–40% 良好塑性
硬度 HB 15–40 可退火或强化处理
磁性 适用于电子设备

常见问题(FAQ)

问题 答案
铝板是否导电? 是的,具有优良导电性。
是否具磁性? 无磁性。
是否可焊接? 可使用TIG/MIG焊或激光焊。
是否易氧化? 表面自然形成致密保护膜。
是否适合真空系统? 可用作真空部件与反射片。
是否可抛光? 可镜面抛光至高反射率。
是否附检测报告? 附纯度与成分检测文件。
是否符合RoHS/REACH? 是,符合国际环保标准。
是否可定制尺寸? 支持定制厚度、形状与尺寸。
是否支持科研样品? 提供科研级小批量供货。

包装与交付

所有铝板出厂前均经纯度与尺寸检测,并进行防氧化包装。
采用真空密封、防潮、防震包装,外层为出口级木箱固定。
附带 COC、RoHS/REACH 文件及检测报告

其他信息

首字母

L

评价

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.