铝丝(Al)

高纯铝丝轻质柔韧,具优良导电性与耐腐蚀性,广泛用于电子、真空蒸发和实验研究。纯度可达99.999%,表面光洁、无氧化层,可定制线径与包装。

描述

铝丝(Al Wire)

产品简介

铝丝(Al Wire)是一种由高纯铝(Purity ≥ 99.9%)制成的轻质金属丝材,具有优异的导电性、导热性和延展性。由于其密度低、抗氧化性能好且加工性强,高纯铝丝被广泛应用于电子、真空镀膜、焊接、电极、航空及科研实验等领域。
其光亮银白的表面与高纯度特性,使其成为科研与高端制造领域常用的导电与蒸发材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯铝丝采用真空熔炼—精密拉丝—退火—抛光工艺制备,产品纯度高、结构均匀、表面光洁。符合 ASTM B233、B234 标准,可提供多种线径及卷丝形态。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.99%、99.999%

  • 直径范围:0.05 – 5.0 mm

  • 形态:卷丝 / 直丝 / 盘丝

  • 制造工艺:真空熔炼 + 精密拉丝 + 退火 + 去氧化膜

  • 表面状态:亮银白 / 抛光 / 光亮态

高纯铝丝具有极低密度与优良的导热导电性能,是真空系统和蒸发镀膜中的理想选择。

应用领域

铝丝在多个工业与科研领域中广泛使用:

  • 电子工业:用于引线、焊接材料与导电连接件。

  • 真空镀膜:作为蒸发源用于金属反射层和光学膜。

  • 半导体制造:用于电极连接与键合工艺。

  • 航空与能源领域:轻量化导体与电极结构。

  • 科研实验:用于高纯金属研究与电磁实验。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.999% 高纯度确保稳定导电性
密度 2.70 g/cm³ 轻质结构,优异延展性
熔点 660.3 °C 低熔点易加工
电导率 37.8 × 10⁶ S/m 良好导电性能
热导率 235 W/m·K 优秀导热性能
延展性 适合精密线材加工
抗氧化性 表面自然形成保护膜

常见问题(FAQ)

问题 答案
铝丝是否适合真空蒸发? 是的,高纯铝丝是常见蒸发材料之一。
是否容易氧化? 表面形成致密氧化膜,稳定性高。
可否用于电子焊接? 可作焊丝或连接线使用。
是否具磁性? 无磁性。
可否定制直径? 支持0.05–5.0 mm定制。
是否提供检测报告? 每批产品附纯度与外观检测报告。
是否可卷盘包装? 可提供盘丝、卷丝或线轴包装。
是否可用于导电测试? 是的,广泛用于电学实验与材料分析。
是否支持小批量? 支持科研样品与批量供货。
是否符合环保标准? 符合RoHS、REACH要求。

包装与交付

高纯铝丝出厂前经纯度与外观检测,采用真空密封、防潮、防氧化包装。卷盘外层加防震泡沫和出口级木箱,确保运输安全与洁净。提供RoHS、REACH、COC及材质检测报告。

结论

铝丝(Al Wire)以其轻质、高纯与优良导电性,在电子、真空镀膜及科研实验中广泛应用。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.