铜锡靶材(CuSn)

铜锡靶材(CuSn)

产品简介(Introduction)

铜锡靶材(CuSn)由铜(Cu)与锡(Sn)合金组成,是电子制造、半导体封装、光学镀膜以及功能薄膜常用的溅射材料之一。Cu 提供高导电性与优良延展性,Sn 则改善润湿性、抗氧化性及结合力,使 CuSn 薄膜兼具良好的导电性能、耐腐蚀性与可焊接性。

CuSn 最典型的用途是作为无铅焊料相关薄膜抗氧化保护层铜互连工艺辅助层以及微电子封装中的关键金属薄膜。


产品详情(Detailed Description)

材料特性:

  • 高导电性与低电阻率(来自 Cu)

  • 良好的润湿性、可焊性(来自 Sn)

  • 抗氧化能力强、稳定性高

  • 溅射均匀性佳、颗粒率低

  • 兼容 DC / RF 磁控溅射

典型配比(可定制):

  • Cu90Sn10

  • Cu80Sn20

  • Cu60Sn40

  • Cu50Sn50
    可根据导电性、可焊性、耐腐蚀性等需求调节成分。

可供规格:

  • 直径:25–300 mm

  • 厚度:3–6 mm

  • 纯度:99.9%–99.99%

  • 形状:圆靶、矩形靶

  • 背板结合:Cu / Ti / In 焊接

  • 表面粗糙度:Ra < 0.8 μm(可做镜面抛光)


应用领域(Applications)

1. 电子焊接与封装行业

CuSn 薄膜在无铅焊料体系中应用成熟,常用于:

  • 焊接金属层

  • 封装互连层

  • 金属接触焊接膜

  • BGA / CSP 结构金属膜


2. 半导体器件

  • 铜互连辅助薄膜

  • 低温金属化层

  • 电极结构层

  • 抗氧化与保护膜

3. 光学与功能薄膜

  • 反射膜

  • 结构保护膜

  • 多层金属膜构建


4. 工业镀膜与耐蚀薄膜

  • 电气连接件

  • 防腐蚀表面

  • 耐磨薄膜结构


5. 科研用途

  • 金属合金薄膜研究

  • 焊料金属界面研究

  • 多层复合金属结构开发


技术参数(Technical Parameters)

参数 范围 / 典型值 说明
纯度 99.9%–99.99% 高纯薄膜缺陷少
Cu/Sn 比例 可定制 调控可焊性与电学性能
致密度 ≥97% 颗粒率低,溅射稳定
直径 25–300 mm 适配主流 PVD 设备
厚度 3–6 mm 支持长寿命靶材
背板 Cu / Ti / In 提升散热与结构稳定性

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 特点 应用
CuSn 可焊性好、抗氧化性佳 焊接薄膜、封装、电极
Cu 导电性极好 金属互连、电极
Sn 润湿性强、低熔点 焊接、封装
CuAg 导电性更高 高性能电极层

常见问题(FAQ)

1. CuSn 是否适合大面积镀膜?
是的,CuSn 溅射稳定、膜层均匀,适合大面积镀膜。

2. CuSn 的成分比例可以定制吗?
可以,常根据熔点、可焊性与电阻需求调整比例。

3. CuSn 是否易氧化?
Sn 的存在显著提升抗氧化能力,薄膜稳定性高。

4. 是否支持 8” 或 12” 靶材?
支持,且可定制矩形靶用于设备量产线。

5. 是否提供检测报告?
可提供 ICP、XRF、密度、粗糙度等报告。


包装与交付(Packaging)

  • 双层真空密封

  • 防静电袋包装

  • 防震泡棉保护

  • 出口级纸箱/木箱

  • 附带唯一批次编号标记


结论(Conclusion)

铜锡靶材(CuSn)集导电性、可焊性、机械稳定性与耐腐蚀性于一体,是半导体封装、电子制造与光电薄膜中的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密、成分可定制的 CuSn 靶材,适用于科研及量产。