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铜铝靶材(CuAl)是一种由铜(Cu)与铝(Al)组成的高性能合金溅射靶材,兼具铜的高导电性、优良导热性与铝的轻量、抗氧化性和良好成膜特性。CuAl 薄膜在集成电路布线(金属互连)、半导体封装、装饰膜、光学镀膜以及微电子器件制造中具有稳定表现,是电子工业与真空镀膜领域广泛使用的重要材料。
铜铝靶材通常通过真空熔炼、CIP 冷等静压、热压烧结(HP)或热等静压(HIP)制备,以获得均匀组织、低氧含量与高致密度。靶材经过精密机加工处理,可确保溅射过程中的均匀沉积速率与稳定的薄膜附着力。
纯度(Purity): 99.9% – 99.99%
成分比(Composition): Cu-Al 合金(支持 wt%/at% 定制,常见 Cu80Al20、Cu90Al10 等)
尺寸(Size): 圆形靶 Ø25–300 mm;矩形靶可定制
厚度(Thickness): 2–8 mm(可提供薄靶片)
制造工艺(Process): Vacuum Melting / CIP / HP / HIP
背板(Bonding Options): 铜背板、钛背板、铟焊接(In-Bonding)
出色的导电性与导热性
膜层致密,附着力强
耐氧化性能优于纯铜
易获得高度均匀的薄膜厚度
溅射速率稳定、颗粒率低
CuAl 的抗电迁移能力比纯铜更优,可用于:
晶圆金属布线
芯片封装金属层
低电阻金属互连
用于 MEMS、薄膜电阻、半导体接触层:
耐腐蚀接触电极
功率器件金属层
电阻与敏感薄膜应用
凭借金属光泽稳定性,适用于:
建筑五金镀膜
消费电子外观金属层
耐磨装饰膜
CuAl 薄膜组合光学特性良好,可用于:
反射膜
红外功能薄膜
多层光学堆叠膜系
| 参数 | 典型值/范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 科研级 / 工业级可选 |
| 密度 | ≥98% TD | 致密度高,薄膜缺陷少 |
| 成分比 | Cu/Al 可定制 | 调整电导率与机械特性 |
| 厚度 | 2–8 mm | 支持薄靶片 |
| 背板加入 | Cu / Ti / In 焊 | 提升散热性能和机械强度 |
1. CuAl 是否适合 RF 溅射?
适合,DC/RF/HiPIMS 均可使用。
2. 成分比能否自定义?
支持 wt% 或 at% 全范围定制。
3. CuAl 薄膜的导电性是否优于纯铝?
是的,导电性明显提升,并提高耐蚀性。
4. 是否支持加背板?
支持铟焊接、铜背板和钛背板。
5. CuAl 适用于哪些基底?
玻璃、Si、蓝宝石、不锈钢、陶瓷等。
超声清洗
双层真空包装
防静电与防震保护
出口级木箱
每件均附唯一批次编号及质检报告(COA)
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