铜粉(Cu)

描述

铜粉(Cu)

产品简介

铜粉(Copper Powder,化学式 Cu)是一种具有 极高导电性与导热性 的功能金属粉末,广泛应用于 导电浆料、电极、电镀、电机部件、催化剂与粉末冶金 等领域。
其优异的可塑性与导电性,使其成为电子制造与新材料研发中不可替代的重要原料。

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度(99.7%–99.99%)铜粉,形貌可选 球形、树枝状、片状与不规则粉末,满足从科研实验到工业生产的多种应用需求。


产品详情

铜粉呈 红棕色至亮铜色金属粉末,采用 电解法、雾化法或化学还原法 制备,具有高纯度、低氧含量与优异分散性。
不同形貌适用于不同工艺:球形粉适合导电涂层与3D打印,树枝状粉适用于烧结与导电胶体系。

主要特点:

  • 导电导热性能优异(仅次于银);

  • 高纯度、低氧含量、杂质少

  • 可焊接、可烧结性好

  • 成形性能优良

  • 可定制粒径与形貌结构。


应用领域

  • ⚙️ 粉末冶金:用于电机、电刷、滑环、轴承与结构件;

  • 💡 电子与导电材料:用于导电浆料、铜电极、导电胶;

  • 🔋 新能源与电池:用于锂电池集流体、铜箔与负极材料;

  • ⚗️ 化学催化剂:用于加氢、脱硝与CO反应;

  • 🧪 科研与薄膜沉积:用于溅射靶、蒸发源与复合粉开发。


技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
化学式 Cu 高导电金属粉
纯度 99.7% – 99.99% 高纯材料级
外观 红棕色金属粉末 光泽细腻
粒径范围 1 – 75 μm(可提供纳米级 <100 nm) 影响导电与烧结特性
制备方法 电解 / 雾化 / 还原法 适配不同工艺需求
密度 8.96 g/cm³ 高密度金属
熔点 1083°C 热稳定性优良
电导率 5.96×10⁷ S/m 金属中仅次于银
热导率 401 W/m·K 高效散热性能
氧含量 <0.05% 保证导电性能

相关材料对比

材料 主要优势 典型应用
Cu(铜) 高导电、高延展 导电浆料、电极、焊料
Ag(银) 导电性最高 光学与电子镀膜
Al(铝) 轻质、导热好 散热组件与导电胶
Ni(镍) 耐蚀、磁性 电极与催化剂

常见问题(FAQ)

问题 答案
铜粉主要用途是什么? 用于导电浆料、电极、电镀与粉末冶金。
是否导电? 是的,导电性能极高,仅次于银。
是否易氧化? 表面会形成薄氧化膜,建议干燥惰性储存。
是否可用于3D打印? 可,球形铜粉适用于L-PBF与Binder Jet。
是否可用于催化? 可,用于加氢反应与化学还原体系。
熔点是多少? 1083°C。
是否可定制粒径? 可提供 1–150 μm 粒径范围或纳米级。
是否环保? 无毒、可回收,符合 RoHS 与 REACH 要求。
是否适合真空镀膜? 可,用于蒸发源与溅射靶原料。
包装方式? 真空密封、防潮铝箔袋或瓶装。

包装与交付

所有铜粉出厂前均经过 ICP 杂质检测、粒度分布分析与O/N 含量测试
采用 真空密封 + 防潮铝箔袋包装,防止氧化、变色与结块。
提供 100 g、500 g、1 kg、25 kg 等规格,支持科研与工业批量交付。


结论

铜粉以其 卓越的导电导热性能与良好可加工性,在电子、电镀、冶金与能源领域中被广泛采用。
苏州科跃材料科技有限公司可提供多种形貌、粒径与纯度等级的高性能铜粉,满足科研与高端制造需求。

📩 如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.