铜丝(Cu)

高纯铜丝具有优异的导电性与延展性,适用于电子、电极、真空蒸发源及科研用途。纯度可达99.999%,表面光洁、无氧化层,可按需求定制直径与包装。

描述

铜丝(Cu Wire)

产品简介

铜丝(Cu Wire)是一种由高纯铜(Purity ≥ 99.9%)制成的导电金属丝材,具有卓越的导电性、导热性和延展性。高纯铜丝广泛应用于电子器件、电气连接、真空蒸发源、科研实验及电极制造等领域。
由于其优异的物理性能与化学稳定性,铜丝是科研与工业制造中最常用、性能最稳定的金属导线之一。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的高纯铜丝采用真空熔炼—拉丝—退火—精抛光工艺制备,产品纯度高、表面光滑、无氧化膜。铜丝符合 ASTM B170、B152 等标准,适用于科研及精密电子应用。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.99%、99.999%

  • 直径范围:0.05 – 5.0 mm

  • 形态:卷丝 / 直丝 / 盘丝

  • 制造工艺:真空熔炼 + 拉丝 + 退火 + 抛光

  • 表面状态:亮铜色 / 去氧化层 / 光亮态

高纯铜丝具有极低的电阻率、良好的抗拉强度与热传导性能,是精密电子器件与真空系统的理想导电材料。

应用领域

铜丝凭借其高导电性与高纯度,在多个高科技行业中得到广泛应用:

  • 电子与电气工业:用于精密连接线、焊接线与导电部件。

  • 真空与薄膜沉积:用于PVD、CVD蒸发源。

  • 电极与电化学系统:用于阳极、阴极与导电桥。

  • 科研与实验设备:作为导电引线与测试元件。

  • 能源与航空航天:用于传感、线圈与导电组件。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.999% 高纯度降低电阻与杂质影响
密度 8.96 g/cm³ 均匀致密、延展性强
熔点 1083 °C 高温稳定性良好
电导率 59.6 × 10⁶ S/m 卓越导电性能
热导率 401 W/m·K 优异导热性能
延展性 适合精细加工
工艺 真空熔炼 + 拉丝 确保纯净度与光洁度

常见问题(FAQ)

问题 答案
铜丝能否用于真空系统? 可以,表面洁净度高、气体释放率低。
是否可用于蒸发镀膜? 是的,高纯铜丝是常见蒸发源材料。
是否容易氧化? 经防氧化处理后可长期保存。
是否支持定制直径? 支持0.05–5.0 mm定制。
是否具磁性? 无磁性。
是否附带检测报告? 提供纯度、密度与尺寸检测报告。
是否可卷盘包装? 可提供盘丝或切段形式。
可否用于电极? 是的,常用于电化学实验。
交货周期? 常规规格2–3周。
是否符合环保标准? 符合RoHS与REACH标准。

包装与交付

铜丝出厂前均经真空退火与表面检测。产品采用真空密封、防氧化、防潮包装,并放置于防震线盘或木箱内。附带RoHS、REACH、COC及材质分析报告,支持国际运输。

结论

铜丝(Cu Wire)以其优异的导电、导热性能与高纯度特性,广泛应用于电子、真空与科研领域。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

其他信息

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.