铕靶材(Eu)

铕靶材(Eu Sputtering Target)

产品简介

铕(Europium, Eu)是一种银白色稀土金属,具有极强的还原性和优异的发光特性。铕靶材因其在光学、显示与发光材料领域中的独特性能,被广泛应用于荧光粉、OLED、光学镀膜及功能薄膜制备中。其制备的薄膜在红光发射与能量转换方面具有突出表现,是高性能光电器件的重要材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度铕靶材(纯度99.9%–99.99%),采用真空熔炼与冷等静压(CIP)工艺制备,结构均匀、致密性高,表面光洁无裂纹。
靶材可制成圆形、矩形及异形规格,适配直流(DC)与射频(RF)磁控溅射系统。
可根据需求提供铜(Cu)、钛(Ti)或铟焊(In Bonded)背板结合,以提高散热与机械强度。

技术特点

  • 高纯度(3N–4N),杂质含量极低;

  • 优异的发光性能与化学稳定性;

  • 溅射速率稳定、膜层均匀;

  • 可用于制备发光膜与能量转换膜;

  • 支持定制尺寸与背板结合方案。

应用领域

  • 显示与照明:用于红光发射薄膜、荧光层与OLED发光材料;

  • 光学镀膜:用于红外反射膜及能量转换膜;

  • 半导体领域:用于掺杂膜与发光功能层;

  • 能源材料:用于光伏转换膜与激光应用;

  • 科研实验:用于Eu掺杂的功能性氧化物与氮化物薄膜研究。

技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.9% – 99.99% 高纯度确保发光性能稳定
直径 25 – 300 mm(可定制) 适配主流溅射设备
厚度 3 – 6 mm 影响溅射速率与膜层厚度
密度 ≥ 5.25 g/cm³ 致密性高,薄膜均匀性好
背板结合 Cu / Ti / In 焊 提升散热性能与机械稳定性
制备工艺 真空熔炼 + CIP 组织均匀、寿命长、溅射效率高

常见问题(FAQ)

问题 答案
铕靶材可用于哪些溅射系统? 兼容DC与RF磁控溅射系统。
铕靶材沉积的薄膜有何特点? 具有高亮度红光发射与优良能量转换效率。
是否可与其他元素共溅射? 可以,与氧化物或氮化物共溅射制备Eu掺杂功能膜。
是否易氧化? 铕易氧化,应在真空或惰性气氛下储存与操作。
是否提供背板焊接? 可提供Cu、Ti或In焊结合方案。
是否适用于OLED或显示行业? 是的,广泛用于红光发光层与荧光膜制备。
可否定制尺寸? 可提供Ø25–Ø300 mm及矩形靶材。
包装方式? 真空密封、防震、防潮包装,确保运输洁净安全。

结论

铕靶材以其优异的稀土发光特性与高纯度特征,在显示、光电与能源领域中具有重要应用价值。苏州科跃材料科技有限公司提供高品质Eu靶材及专业背板结合服务,确保溅射稳定、膜层性能卓越,是科研与工业客户的理想选择。

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📧 sales@keyuematerials.com