铒靶材（Er Sputtering Target）

产品简介

铒（Erbium, Er）是一种浅粉灰色稀土金属，具有优异的光学活性和化学稳定性。铒靶材在光通信、红外光学、显示和能源领域中发挥着至关重要的作用。由于其独特的4f电子能级结构，铒能在1.54 μm波段发光，这使其成为掺铒光纤放大器（EDFA）和光电薄膜器件中的关键材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度铒靶材（纯度99.9%–99.99%），采用真空熔炼与热等静压（HIP）工艺制造，晶粒细小均匀、结构致密，溅射稳定性优异。
靶材可制成圆形、矩形或异形结构，兼容直流（DC）与射频（RF）磁控溅射系统。
可选铜（Cu）、钛（Ti）或铟焊（In Bonded）背板结合，以增强散热性能和机械稳定性。

技术特点

• 高纯度（3N–4N），薄膜杂质含量低；

• 优异的光学活性，适合发光与能量转换膜；

• 溅射速率稳定，膜层均匀致密；

• 良好的化学稳定性与高温抗氧化性；

• 支持定制多种规格与背板结构。

应用领域

• 光通信：用于掺铒光纤放大器（EDFA）及波分复用器件；

• 光学镀膜：用于红外滤光膜、发光薄膜与能量转换层；

• 显示与发光材料：用于OLED和激光器发光层；

• 能源领域：用于太阳能电池的能量转换薄膜；

• 科研实验：用于Er掺杂氧化物、氮化物及碳化物薄膜研究。

技术参数

常见问题（FAQ）

结论

铒靶材凭借其优异的光学性能和稳定的稀土特性，在光通信、发光与能源材料领域中占据重要地位。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯、高致密Er靶材及专业背板焊接方案，确保薄膜性能稳定、溅射效果优良，是科研与工业客户的理想合作伙伴。

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📧 sales@keyuematerials.com