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铒蒸发材料采用高纯金属铒原料，经真空精炼与惰性气氛加工制备，严格控制氧、水、碳等杂质含量，确保在高真空条件下具备稳定、可重复的蒸发行为。
纯度范围：99.9% – 99.99%（3N–4N）
材料形态：小块、颗粒、定制尺寸
制造工艺：真空精炼 + 惰性气氛处理
表面状态：低氧化、低吸附，适合高真空蒸发
高纯度与致密组织结构可有效：
稳定蒸发通量，提升膜厚与成分控制精度；
减少稀土杂质对光学与电学性能的影响；
改善薄膜致密度与界面一致性；
提高科研与量产工艺的可重复性。
光通信与集成光子学：Er 掺杂功能薄膜、放大相关结构
光学镀膜：稀土掺杂光学层、功能光学薄膜
稀土氧化物薄膜：Er₂O₃ 反应蒸发或前驱体薄膜
半导体与器件研究：界面工程、功能调控层
科研实验：能级结构、发光机理与稀土材料研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 决定光学与电学性能 |
| 形态 | 块状 / 颗粒 / 定制 | 适配不同蒸发源 |
| 单颗粒尺寸 | 可定制 | 影响蒸发通量稳定性 |
| 熔点 | ~1529 °C | 适合中高温蒸发 |
| 适用工艺 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 兼容主流 PVD 系统 |
| 包装方式 | 真空密封 | 防止氧化与吸附污染 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 铒（Er）蒸发材料 | 1.53 μm 发光特性 | 光通信与光学薄膜 |
| 铽（Tb） | 可见光发光 | 显示与照明薄膜 |
| 铕（Eu） | 红色发光 | 发光与显示薄膜 |
| 镥（Lu） | 稳定性高 | 高端光学薄膜 |
Q1：铒蒸发材料适合哪种蒸发方式？
A：适用于热蒸发和电子束蒸发，常用于稀土掺杂与光学薄膜制备。
Q2：铒在薄膜中的主要作用是什么？
A：作为发光与能级调控元素，尤其在光通信相关应用中至关重要。
Q3：铒蒸发对真空条件要求高吗？
A：建议在高真空条件下使用，以避免氧化和成分偏移。
Q4：铒薄膜容易氧化吗？
A：相对容易，因此通常在受控环境或反应蒸发中使用。
Q5：是否可用于反应蒸发制备氧化物？
A：可以，常用于 Er₂O₃ 等稀土氧化物薄膜制备。
Q6：颗粒尺寸是否影响蒸发稳定性？
A：会，均匀尺寸有助于稳定蒸发速率和膜厚控制。
Q7：铒薄膜的光学稳定性如何？
A：在合适工艺与封装条件下具有良好长期稳定性。
Q8：是否适合科研级应用？
A：非常适合，是光学与稀土材料研究中的常用元素。
Q9：铒蒸发材料如何储存？
A：建议真空或惰性气氛密封保存，避免暴露空气。
Q10：是否支持定制规格？
A：支持，可根据蒸发设备与工艺需求定制形态与尺寸。
所有铒蒸发材料在出厂前均经过严格质量检测，并建立完整批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲及出口级包装，确保在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性能。
铒蒸发材料（Er）凭借其独特的光通信能级特性、良好的化学与热稳定性，在光学薄膜、稀土掺杂及前沿科研领域中占据重要地位。对于追求高一致性、高可靠性的薄膜沉积应用，铒蒸发材料是一种成熟、可靠且高价值的选择。
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