铌管(Nb)

描述

铌管(Nb Tube)

产品简介

铌管(Nb Tube)是一种由高纯铌(Purity ≥ 99.9%)制成的难熔金属管材,具有优异的延展性、高温强度、耐腐蚀性与超导性能。铌在真空、高温和酸性介质中表现出极高的稳定性,是电子、真空、超导及核能领域的重要结构与功能材料。
凭借其极低的蒸气压和优异的机械性能,铌管常用于超高真空系统、半导体工艺设备、超导磁体与高温实验系统中。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的高纯铌管采用**电子束熔炼(EBM)或真空电弧熔炼(VAR)**工艺生产的高纯铌锭,经挤压、冷拉与真空退火制备,结构致密、纯度高、表面光洁。

典型规格如下:

  • 纯度等级:99.9%、99.95%、99.99%

  • 外径范围:3 – 100 mm

  • 壁厚范围:0.3 – 8 mm

  • 长度:≤2000 mm(可定制)

  • 制造工艺:EBM / VAR 熔炼 + 热挤压 + 冷拉 + 退火 + 抛光

  • 表面状态:亮银灰色 / 抛光 / 酸洗 / 去氧化膜

铌管具有优良的塑性和抗蠕变能力,适合在高温真空或强腐蚀环境中长期使用。

应用领域

铌管在科研与高科技工业中应用广泛:

  • 超导领域:用于NbTi、Nb₃Sn等超导线圈与磁体结构。

  • 真空电子工业:用于真空腔体、电子枪套管与蒸发源。

  • 半导体与光学镀膜:用于PVD/CVD设备的高纯导流与结构件。

  • 核能与高温系统:作为真空导管、加热元件支撑与反应器结构。

  • 化工设备:耐酸性强,用于硫酸、氢氟酸系统的耐蚀部件。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.99% 高纯度减少杂质影响
密度 8.57 g/cm³ 组织致密、无气孔
熔点 2477 °C 难熔金属特性
抗拉强度 ≥500 MPa 高强度兼具延展性
热导率 54 W/m·K 稳定导热性能
电导率 6.6 × 10⁶ S/m 良好的导电性
工艺 EBM/VAR + 退火 + 抛光 提高纯度与表面光洁度

常见问题(FAQ)

问题 答案
铌管是否适合真空环境? 是的,铌具有极低蒸气压与气体释放率,非常适合UHV系统。
是否具有磁性? 无磁性,适用于超导与磁场敏感应用。
铌管能否耐高温? 可长期工作在2000°C以下真空环境中。
是否可焊接? 可进行电子束焊、氩弧焊或真空钎焊。
是否提供超导级纯度? 可提供4N以上电子级或超导级铌管。
可否用于强酸性环境? 对氢氟酸、硫酸具有极高耐蚀性。
是否可定制尺寸? 可按客户图纸加工各类非标尺寸。
是否可用于薄膜沉积系统? 是的,常用于溅射腔体或靶材结构件。
是否附带检测报告? 提供纯度、密度与显微组织检测文件。
是否可小批量供应? 支持科研样品与批量生产。

包装与交付

所有铌管出厂前均经过真空退火与表面检测。产品采用真空密封、防氧化包装,并配备防震、防潮木箱。可附RoHS、REACH、COC与材料分析报告,确保运输安全。

结论

铌管(Nb Tube)以其优异的耐腐蚀性、高温强度与超导特性,广泛应用于科研、真空系统及高科技制造领域。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.