铈靶材(Ce)

铈靶材(Ce Sputtering Target)

产品简介(Introduction)

铈(Cerium, Ce)是一种银灰色稀土金属,化学活性高,具有优异的氧化还原性能与光学特性。铈靶材在光学镀膜、功能氧化物薄膜、催化材料及半导体工艺中应用广泛。铈基薄膜具有高透光率、良好稳定性与可调控氧化态,是制备CeO₂、复合氧化物以及稀土功能薄膜的重要材料。

产品详情(Detailed Description)

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度铈靶材(纯度99.9%–99.99%),采用真空冶炼、冷等静压(CIP)或热等静压(HIP)工艺制备,结构均匀致密、杂质含量低、表面质量优秀。
靶材可提供 圆形、方形、环形及异形结构,兼容 直流(DC)与射频(RF)磁控溅射系统
为提升高功率溅射性能,可提供 铜(Cu)/钛(Ti)背板铟焊(In Bonded)结合

工艺与性能特点

  • 高纯度(3N–4N),提升薄膜光学与电学性能;

  • 高致密度结构,溅射均匀性佳;

  • 表面光洁度高,靶材寿命长;

  • 易形成CeO₂薄膜,适用于多种氧化物系统;

  • 支持尺寸、形状与背板结构全定制。

应用领域(Applications)

1. 光学镀膜

  • 高折射率CeO₂膜

  • 抗反射膜与滤光膜

  • 紫外吸收膜

2. 半导体与电子材料

  • 功能氧化物薄膜

  • Ce掺杂膜与电极保护层

  • 高温稳定材料

3. 能源材料

  • SOFC燃料电池电解质膜(CeO₂作为基底或掺杂材料)

  • 催化膜(CeO₂具有优异氧储能力)

4. 科研用途

  • Ce基复合氧化物薄膜

  • Ce-Si、Ce-Ti等复合材料研究

  • 光电转换与功能性薄膜结构设计

技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.9% – 99.99% 高纯度可减少薄膜缺陷与杂质影响
直径 Ø25–Ø300 mm(可定制) 适配各种主流溅射腔体
厚度 3–6 mm 决定沉积速率与溅射稳定性
密度 ≥ 6.77 g/cm³ 高致密度提升成膜一致性
制备工艺 CIP / HIP / 真空熔炼 微结构均匀、寿命更长
背板结合 Cu / Ti / In Bonded 增强散热性能与结构强度

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要优势 典型应用
铈(Ce) 高透光性、易形成CeO₂ 光学膜、氧化物功能膜
钕(Nd) 稀土光学特性突出 光学与发光材料
镧(La) 高折射率 先进光学镀膜
钇(Y) 热稳定性高 功能氧化物薄膜

常见问题(FAQ)

问题 答案
铈靶材适用于哪些溅射方式? 适用于DC与RF磁控溅射。
Ce薄膜主要具有哪些特性? 高透光率、高折射率、良好氧化稳定性。
是否可用于制备CeO₂薄膜? 是的,CeO₂是其最常见应用。
是否易氧化? 铈易氧化,应真空密封保存。
是否可与其他金属共溅射? 可与Si、Ti、Zr等共溅射制备复合膜。
是否提供背板焊接? 可提供Cu/Ti/In Bonded多种方案。
可否定制异形靶材? 可以,根据图纸加工。
包装方式? 真空密封 + 防潮 + 防震保护。

包装与交付(Packaging)

所有铈靶材均采用:

  • 真空密封包装

  • 独立批次追踪标签

  • 防震泡沫固定

  • 出口级硬纸箱或木箱确保安全运输

结论(Conclusion)

铈靶材以其优异的光学性能、氧化特性及高纯结构,在光学镀膜、半导体、能源材料及科研领域中具有广泛应用。苏州科跃材料科技有限公司提供高致密度、高纯度Ce靶材及专业背板焊接方案,确保优异的薄膜沉积质量,是科研与工业客户的可靠选择。

如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:
📧 sales@keyuematerials.com