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铈蒸发材料选用高纯金属铈原料,经真空精炼与惰性气氛加工制备,严格控制氧、水、碳等杂质含量,以适配铈对环境较为敏感的材料特性。
纯度范围:99.9% – 99.99%(3N–4N)
材料形态:小块、颗粒、定制尺寸
制造工艺:真空精炼 + 惰性气氛处理
表面状态:低氧化、低吸附,适合高真空蒸发
高纯度与良好表面状态可有效:
稳定蒸发通量,减少成分波动;
提高薄膜致密度与成分一致性;
改善氧化还原相关功能薄膜性能;
提升科研与量产工艺的可重复性。
反应蒸发薄膜:CeO₂、Ce 基氧化物功能薄膜
光学镀膜:功能光学层、紫外与可见光应用
半导体与器件研究:界面调控层、功能缓冲层
催化与能源材料:氧化还原相关薄膜与功能层
科研实验:稀土化学、能级与界面工程研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 影响薄膜功能与稳定性 |
| 形态 | 块状 / 颗粒 / 定制 | 适配不同蒸发源 |
| 单颗粒尺寸 | 可定制 | 影响蒸发通量稳定性 |
| 熔点 | ~795 °C | 适合中温蒸发 |
| 适用工艺 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 兼容主流 PVD 系统 |
| 包装方式 | 真空或惰性气体密封 | 防止氧化与吸湿 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 铈(Ce)蒸发材料 | 可变价态、氧化还原能力强 | 功能氧化物薄膜 |
| 镧(La) | 高反应活性 | 高介电与光学薄膜 |
| 铕(Eu) | 发光能级特性 | 发光与显示薄膜 |
| 钇(Y) | 稳定性好 | 通用稀土氧化物薄膜 |
Q1:铈蒸发材料适合哪种蒸发方式?
A:适用于热蒸发和电子束蒸发,常用于反应蒸发体系。
Q2:铈在薄膜中的主要作用是什么?
A:作为可变价态稀土源,用于氧化还原调控与功能薄膜设计。
Q3:铈蒸发对真空条件要求高吗?
A:是的,建议在高真空或受控反应气氛中使用。
Q4:铈薄膜容易氧化吗?
A:相对容易,但这也是其用于制备 CeO₂ 功能薄膜的优势。
Q5:是否可用于反应蒸发制备氧化物?
A:非常适合,是 CeO₂ 薄膜制备的常用金属源。
Q6:颗粒尺寸是否影响蒸发稳定性?
A:会,均匀尺寸有助于稳定蒸发速率和膜厚控制。
Q7:铈薄膜的光学性能如何?
A:在紫外与可见光波段具备良好调控潜力。
Q8:是否适合科研级应用?
A:非常适合,广泛用于稀土功能与界面研究。
Q9:铈蒸发材料如何储存?
A:建议真空或惰性气氛密封保存,避免暴露空气。
Q10:是否支持定制规格?
A:支持,可根据蒸发设备与工艺需求定制。
所有铈蒸发材料在出厂前均经过严格质量检测,并建立完整批次追溯体系。产品采用真空或惰性气体密封、防震缓冲与出口级包装,确保运输与储存过程中保持高纯度与稳定性能。
铈蒸发材料(Ce)凭借其独特的可变价态特性、良好的反应蒸发适应性与可靠的蒸发行为,在功能氧化物薄膜、光学镀膜及前沿科研领域中展现出重要价值。对于追求高一致性与功能可控性的薄膜沉积应用,铈蒸发材料是一种成熟且高性价比的稀土选择。
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