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铅铌靶材(PbNb)由铅(Pb)与铌(Nb)组成,是一种用于制备铁电薄膜、介电薄膜、能带调控结构以及复杂氧化物前驱薄膜的功能性金属靶材。Pb 提供强极化特性与可形成复杂氧化物的能力,而 Nb 则具备优异的电学稳定性与高介电优势,使 PbNb 在钙钛矿结构薄膜、铁电材料和介电功能领域具有重要应用价值。
Pb–Nb 系薄膜常作为制备铅基氧化物铁电材料(例如 PZT、PNN、PZN)的前驱金属化层,广泛应用于科研实验、新材料开发以及薄膜电子器件制程。
适用于铁电与功能氧化物薄膜
Pb 与 Nb 是多种铁电和高介电常数氧化物的核心元素。
良好的溅射稳定性
采用高致密度烧结与合金化处理,减少 Pb 的挥发与粉化现象。
薄膜均匀性高
Nb 的加入使薄膜结构更稳定,缺陷密度更低。
氧化物薄膜兼容性强
可在氧分压条件下直接生长 Pb–Nb–O 薄膜。
适用于 RF 与磁控溅射系统
Pb70Nb30
Pb60Nb40
Pb50Nb50
亦可根据目标薄膜结构(铁电性、介电常数、光学特性)定制比例。
直径:25–200 mm
厚度:2–6 mm
纯度:99.9%–99.99%
形状:圆靶 / 方靶 / 特殊尺寸
背板可选:Cu / Ti / Mo / In bonding
粗糙度:Ra < 0.8 µm(可提供镜面级抛光)
PbNb 是制备铁电功能层的重要前驱材料,例如:
PZT(PbZrTiO₃)衬底 / 过渡层
PNN(PbNb₂O₆)功能薄膜
其他 Pb–Nb–O 铁电材料
用于:
电容器薄膜
高介电常数调控薄膜
功能介质层
PbNb 是制备 ABO₃ 类薄膜的核心金属源之一,常用于:
光电薄膜
介电调控结构
多层异质结材料
适用于:
压电 / 铁电传感器
微机电系统(MEMS)结构
金属化前驱薄膜
功能电子薄膜叠层
广泛用于:
稀土/过渡金属氧化物研究
铁电与反铁电材料开发
复杂能带结构调控
Pb–Nb 系多元化薄膜工程
| 参数 | 范围 / 典型值 | 技术说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 适用于科研级薄膜制备 |
| 成分比例 | 可定制 | 决定铁电性、介电常数等特性 |
| 致密度 | ≥97% | 提升溅射稳定性与均匀性 |
| 直径 | 25–200 mm | 兼容主流溅射靶尺寸 |
| 厚度 | 2–6 mm | 支持薄靶与增厚靶材 |
| 背板 | Cu / Ti / Mo / In | 提升散热与机械强度 |
| 粗糙度 | Ra < 0.8 µm | 低颗粒、高均匀性薄膜 |
| 材料 | 特点 | 应用 |
|---|---|---|
| PbNb | 铁电/介电结构关键金属层 | PZT、PNN、介电薄膜 |
| PbZr | 强铁电特性 | PZT 系列材料 |
| Nb₂O₅ | 高介电、高稳定性 | 介质薄膜、电容器 |
| PbO | 铁电材料主要氧化物 | Pb 基薄膜材料 |
1. PbNb 会挥发或产生颗粒吗?
科跃材料采用合金化处理与高致密制程,显著降低 Pb 的挥发与粉化风险。
2. 是否适用于 RF 溅射?
稀土/碱金属类材料一般推荐 RF,PbNb 兼容 RF / DC / 磁控溅射。
3. 成分比例是否可定制?
完全可按铁电性能、介电常数等需求定制。
4. 是否可以制备 Pb–Nb–O 氧化物薄膜?
是的,可在氧分压控制下直接形成稀土氧化膜。
5. 能否提供分析报告?
可提供 ICP、XRF、密度、粗糙度等完整检测数据。
真空密封防氧化
防静电袋 + 泡棉防震
出口级纸箱或木箱包装
每件靶材均带唯一批号与检测记录
铅铌靶材(PbNb)作为铁电薄膜与高介电薄膜的重要前驱材料,在钙钛矿结构薄膜、功能电子材料和科研开发中发挥重要作用。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、成分可定制的 PbNb 靶材,满足科研及工业应用需求。
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