铂管(Pt)

高纯铂管由99.95%–99.999%铂制成,具有优异的耐高温与耐腐蚀性能,适用于热电偶保护、真空系统、气体导流及科研实验。可定制微细管、毛细管及高纯结构件,满足高端制造与分析需求。

描述

铂管(Pt Tube)

产品简介

铂管(Pt Tube)是一种由高纯铂(Purity ≥ 99.95%)制成的贵金属管材,具有极高的化学稳定性、电导率和耐高温性能。铂在酸碱介质中几乎不受腐蚀,能长期在高温及强氧化环境下保持结构完整,因此广泛应用于化学分析、热电偶保护套管、蒸发源和真空系统等领域。
其优异的抗氧化性与高熔点(1768 °C)使其成为科研实验及高端制造工艺中不可替代的材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的铂管采用高纯铂锭通过真空熔炼—热挤压—冷拉—退火工艺制备,确保组织致密、表面光洁、尺寸精确。可根据客户需求提供不同纯度、直径与长度的定制产品。

可提供以下规格:

  • 纯度等级:99.95%、99.99%、99.999%

  • 外径范围:0.3 – 30 mm

  • 壁厚范围:0.1 – 2 mm

  • 长度:≤1000 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空熔炼 / 冷加工 / 真空退火 / 抛光

铂管表面光滑,管壁均匀,可承受高温及急冷急热循环,适合在高纯气氛或真空中长期使用。

应用领域

铂管在科研、分析、电子与高温工艺中发挥重要作用:

  • 化学分析与实验室设备:用于高温蒸发、化学反应与气体分析系统。

  • 热电偶与传感器:作为保护套管或电极导管使用。

  • 真空与电子系统:在高真空环境中用于气体流通或离子源结构。

  • 玻璃与陶瓷工业:用于高温熔融和导流系统。

  • 医疗与生物技术:作为耐腐蚀惰性导管或电极支撑管。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.95% – 99.999% 高纯度确保化学稳定性
外径 0.3 – 30 mm 精密可控,适用于不同设备
壁厚 0.1 – 2 mm 均匀致密,防止渗漏
熔点 1768 °C 可长期耐受高温环境
电导率 9.5 × 10⁶ S/m 优异的电性能
密度 21.45 g/cm³ 高密度结构确保强度
工艺 真空熔炼 + 精加工 保证高纯度与高光洁度

常见问题(FAQ)

问题 答案
铂管能耐多高的温度? 铂可在 1600°C 以上长期使用,在惰性气氛下可达 1750°C。
是否可以根据图纸定制? 是的,可根据客户图纸定制尺寸、公差与接口结构。
铂管是否易氧化? 铂在空气中极为稳定,不会形成氧化层。
可否用于酸性或碱性环境? 可用于王水以外的大多数酸碱体系,具有优异耐蚀性。
是否支持焊接或封装? 可进行激光焊、氩弧焊及扩散焊。
可否用于电极或传感器? 是的,铂具有高导电性和惰性,常用于高精度传感器。
表面能否抛光? 可提供镜面抛光或亚光表面处理。
是否可制作毛细管? 可以,最小内径可达 0.1 mm。
是否附带检测报告? 所有产品均附纯度、尺寸及显微检测报告。
交货时间? 常规尺寸库存供应,特殊尺寸 2–3 周可发货。

包装与交付

每根铂管出厂前均经过纯度检测与显微检查。产品采用真空密封与防震包装,外层为防潮木箱,确保长途运输安全无污染。可附材质证明、RoHS/REACH 报告及光谱分析结果。

结论

铂管(Pt Tube)凭借其优异的抗腐蚀性、高温稳定性与高纯度特性,在科研、电子与高温工艺中表现卓越。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.