铁靶材（Fe Sputtering Target）

产品简介

铁（Iron, Fe）是地球上最丰富且应用最广泛的金属之一，具有优良的磁性、导电性与机械性能。铁靶材在磁性薄膜、电子器件、光学镀膜及能源材料领域中被广泛应用。其稳定的溅射性能和良好的成膜质量，使其成为磁记录介质、传感器、铁基合金膜及科研实验的重要原材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度铁靶材（纯度99.9%–99.99%），采用真空熔炼与热等静压（HIP）工艺制备，组织均匀致密、晶粒细小、表面平整光洁。
产品可提供圆形、矩形及环形规格，适配DC（直流）与RF（射频）磁控溅射系统。
可选铜（Cu）、钛（Ti）或铟焊（In Bonded）背板结合，以提高热传导性能与机械强度。

技术特点

• 高纯度（3N–4N）保证薄膜质量稳定；

• 高致密度与均匀组织结构；

• 磁性优良、溅射速率稳定；

• 良好的附着性与成膜均匀性；

• 可根据客户需求定制不同尺寸与形状。

应用领域

• 磁性材料：用于铁磁薄膜、传感器及存储介质；

• 电子工业：用于电极层、接触层及互连层；

• 光学镀膜：用于吸收层及反射调控膜；

• 能源材料：用于催化膜、电极涂层与燃料电池；

• 科研实验：用于铁基合金、氧化铁（Fe₂O₃、Fe₃O₄）及复合薄膜研究。

技术参数

常见问题（FAQ）

结论

铁靶材以其优异的磁学特性、稳定的成膜性能和广泛的适用性，被广泛应用于磁性器件、电子工业和光学镀膜等领域。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度Fe靶材及背板焊接服务，确保优质薄膜沉积效果与长寿命溅射性能，是科研与工业客户的理想选择。

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📧 sales@keyuematerials.com