铁镍蒸发材料（FeNi）

产品详情（Detailed Description）

铁镍蒸发材料通常采用高纯铁与高纯镍为原料，通过真空熔炼或合金化烧结工艺制备，确保合金成分均匀、组织致密、杂质含量严格受控。

• 纯度等级：常见为 99.9%（3N）–99.99%（4N），满足高端薄膜沉积需求

• 合金比例：Fe/Ni 比例可按质量比或原子比定制，用于调节薄膜的磁学、电学及热学性能

• 蒸发稳定性：合金化结构有助于改善多组分蒸发一致性，减少成分偏析与颗粒产生

• 供货形态：颗粒、块状、片状或定制形态，适配钨舟、钼舟及电子束坩埚等多种蒸发源

通过合理的成分设计，FeNi 蒸发材料可获得致密、均匀、重复性良好的合金薄膜。

应用领域（Applications）

铁镍蒸发材料在多个薄膜沉积与功能材料领域中具有典型应用，包括：

• 磁性与自旋电子器件：软磁薄膜、磁传感器、磁记录相关薄膜

• 电子与微电子器件：功能金属层、电极与结构薄膜

• MEMS 与精密器件：低应力、低热膨胀结构薄膜

• 功能镀膜与表面工程：耐蚀、结构功能涂层

• 科研与实验室应用：磁学薄膜、合金物性与结构研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

Q1：FeNi 蒸发材料适合哪种沉积方式？
A：适用于热蒸发和电子束蒸发工艺，兼容多种真空镀膜设备。

Q2：FeNi 薄膜的主要优势是什么？
A：磁学性能可调、成膜稳定、结构一致性好。

Q3：合金比例可以定制吗？
A：可以，根据磁性、热膨胀或电学性能需求定制不同 Fe/Ni 比例。

Q4：是否适合磁性器件应用？
A：非常适合，FeNi 是软磁薄膜和磁传感器中的常用材料体系。

Q5：是否适合连续或批量蒸发？
A：适合，蒸发过程稳定，工艺重复性好。

Q6：膜层附着力表现如何？
A：对硅、玻璃及多种金属基底具有良好附着性能。

Q7：是否可用于多层或复合薄膜结构？
A：可以，常作为磁性层或过渡层使用。

Q8：科研应用中常见用途有哪些？
A：软磁薄膜、低热膨胀合金薄膜及磁学性能研究。

包装与交付（Packaging）

所有铁镍蒸发材料在出厂前均经过成分、尺寸与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封包装，配合防震缓冲材料与出口级包装方案，确保在运输与储存过程中保持高纯度与稳定性能。

结论（Conclusion）

铁镍蒸发材料（FeNi）凭借其成熟可靠的合金体系、可调的磁学与热学性能以及稳定的蒸发行为，在磁性薄膜与功能金属薄膜领域长期保持重要地位。对于需要磁性调控、结构稳定性和工艺可靠性的真空蒸发应用，FeNi 是一种值得信赖的蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com