铁管(Fe)

高纯铁管由精炼铁制成,具有优异的机械强度、磁导率和导热性能。广泛应用于真空设备、加热装置、实验反应管及金属冶炼领域。可按需定制尺寸、纯度(99.5%–99.99%)及表面处理,适用于科研与高温环境下的结构与导管应用。

描述

产品简介

铁管(Fe Tube)是一种以高纯铁为原料制成的金属管材,具有优异的机械强度、可塑性和导热性。由于铁在金属材料中兼具良好的加工性与经济性,铁管被广泛用于科研实验、冶金工艺、真空系统、加热元件以及高温反应装置中。对于材料研究领域而言,高纯铁管可作为标准材料或保护管使用,在真空或还原气氛中保持优良的化学稳定性。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的铁管采用高纯铁(纯度≥99.9%)冶炼,通过冷轧、拉拔或真空烧结工艺制备。产品具有均匀的壁厚与致密的晶粒结构,表面经过精细抛光或酸洗处理,以确保管内洁净度和尺寸稳定性。
可提供不同规格:

  • 外径范围:3 mm – 120 mm

  • 壁厚:0.5 mm – 10 mm

  • 长度:≤2000 mm(可按需定制)

  • 纯度等级:99.5%、99.9%、99.99%

制造方式包括热轧、冷拉与真空退火,确保铁管在后续加工如焊接、切割或真空装配中具有优良的可操作性。对于真空或高温用途,可提供低碳含量版本,以减少氧化与析碳风险。

应用领域

铁管在科研与工业制造中有广泛用途:

  • 真空设备与热处理炉管:用于输送气体或保护温度传感器。

  • 实验室反应装置:用于高温还原、气体流动实验和化学反应。

  • 金属冶炼与材料制备:用于包覆或保护金属试样。

  • 电子与能源行业:作为磁性材料封装、传热管或支撑部件。

  • 机械结构与仪器制造:在特定环境下作为承压或导向部件。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9%(可选至 99.99%) 杂质含量低,确保电磁性能稳定
外径 3 – 120 mm 可定制匹配设备需求
壁厚 0.5 – 10 mm 可根据压力与热条件设计
长度 ≤2000 mm 支持定制切割
密度 7.87 g/cm³ 高密度确保力学强度
制造工艺 冷拉 / 真空退火 提高表面光洁度与内部均匀性

常见问题(FAQ)

问题 答案
铁管可用于真空环境吗? 可以,高纯铁管在真空和惰性气氛下具有良好稳定性,不易发生氧化。
是否可以根据图纸定制? 是的,我们可根据客户的图纸和尺寸要求生产各种规格铁管。
可否提供表面抛光或氧化膜处理? 可以,提供机械抛光、酸洗、氧化层预处理等多种表面工艺。
铁管在高温下会变形吗? 纯铁在约 912°C 会发生 α→γ 相变,但在合理支撑与控温下可稳定使用。
是否能与其他金属焊接? 可以,铁管可与不锈钢、镍等金属通过 TIG/MIG 焊接结合。
可用于磁性实验吗? 是的,铁具有优异的磁导率,适用于磁性材料研究与屏蔽。
可提供检测报告吗? 所有产品均附带成分分析与尺寸检测报告。
铁管是否易生锈? 若暴露于空气或潮湿环境,表面会氧化,建议存放于干燥或真空条件下。
能否制成小直径毛细管? 可以,最小外径可达 1 mm,适用于精密实验或仪器导管。
出厂如何包装? 采用真空密封或防锈油处理,并配以防震包装,适合国际运输。

包装与交付

所有铁管在出厂前均经过超声探伤与表面检查。产品真空密封包装,并放置于防震泡沫与木箱中,确保运输安全与洁净度。可提供出口文件与RoHS/REACH合规说明。

结论

铁管(Fe Tube)凭借其优异的可加工性、导磁性与高纯度特性,在科研实验、真空系统及工业制造中占据重要地位。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.