钽镧靶材（TaLa）

产品简介（Introduction）

钽镧靶材（TaLa）由钽（Ta）与镧（La）两种金属组成，是一种兼具高熔点、优异化学稳定性、良好电学性能与结构可调性的稀土难熔金属靶材。
Ta 具有极高耐腐蚀性和优秀的介电性能，La 则可有效改善薄膜的微结构、提升电学稳定性与晶化行为，使 TaLa 合金靶材在高性能阻挡层、光电薄膜、功能材料和先进电子器件中具有独特优势。

TaLa 广泛用于半导体制造、光学镀膜、功能性薄膜工程，以及科研机构的材料探索与物性调控领域。

产品详情（Detailed Description）

TaLa 靶材采用高纯钽和镧原料，经真空熔炼、粉末冶金（PM）、冷等静压（CIP）、热等静压（HIP）和精密加工制备，特点如下：

• 高致密度（≥97%），适合中高功率溅射

• 成分分布均匀，无偏析

• 氧、碳、氮等杂质含量低

• 优异的热稳定性和化学惰性

• 薄膜颗粒率低、均匀性好

• 成分比可根据薄膜性能需求定制

可提供参数：

• 纯度：99.5%–99.99%

• 常见配比：Ta90La10、Ta80La20、Ta70La30（可定制）

• 直径：25–300 mm

• 厚度：3–6 mm

• 形状：圆靶、矩形靶

• 背板结合：Cu / Ti / In

应用领域（Applications）

半导体与微电子

• 高温阻挡层（金属扩散屏障）

• 电极层 / 导电薄膜

• 绝缘与界面调控薄膜

• 高介电常数材料研究

La 的引入可改善 Ta 的晶体结构并提升膜层稳定性，适用于先进制程节点。

光学与功能性薄膜

• 高折射率光学薄膜

• 反射/吸收功能涂层

• 光电界面层

• 抗腐蚀、抗氧化结构膜

储能与新能源材料

• 电容器介电薄膜

• 氧化物基电子设备保护层

• 功能金属间化合物薄膜

科研与材料探索

• Ta–La 相图、晶化行为研究

• 稀土掺杂金属功能膜

• 微结构调控研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

1. TaLa 靶材适合哪些溅射方式？
适用于 DC、RF 与磁控溅射。

2. 成分比例是否可以调整？
可以按 Ta/La 电学与结构需求定制。

3. TaLa 薄膜稳定性如何？
极高的热稳定性及抗氧化能力，适合高端工艺。

4. 是否支持大尺寸靶材？
支持 4″、6″、8″、12″ 及矩形靶材。

5. 是否提供检测报告？
可提供 ICP、纯度、致密度与外观检测报告。

包装与交付（Packaging）

• 真空密封防氧化

• 防震泡棉保护

• 出口级纸箱或木箱包装

• 独立批次编号可追溯

结论（Conclusion）

钽镧靶材（TaLa）结合难熔金属钽与稀土镧的优势，具有优异的稳定性、耐腐蚀性、良好电学性能和薄膜结构调控能力，是半导体、光电、功能薄膜与科研领域的优选材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密度、可定制成分的 TaLa 靶材，适配多种镀膜设备与应用需求。

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