钽板(Ta)

钽板(Ta Plate)以其超高熔点、极佳耐腐蚀性与稳定真空性能,被广泛应用于电子、化工与航天领域,是高温及真空环境中不可替代的关键金属材料。

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描述

钽板(Tantalum Plate, Ta Plate)

产品简介

钽板(Ta Plate)是一种由高纯钽(Purity ≥ 99.9%–99.99%)制成的难熔金属板材,具有极高的熔点、优异的耐腐蚀性和良好的加工性能
钽在化学、电子、真空和航空航天工业中是一种重要的结构与功能金属材料,特别适用于酸性介质环境、高温部件及真空镀膜设备


产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的高纯钽板采用真空电子束熔炼—热轧—真空退火—精抛光工艺制备,表面光洁、结构致密、纯度稳定。
产品符合 ASTM B708 / GB/T 14841 / ISO 9001 标准,可提供科研级与工业级版本。

典型规格:

  • 纯度等级:99.9%、99.95%、99.99%

  • 厚度范围:0.2 – 20 mm

  • 尺寸范围:≤ 1000 × 1000 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空熔炼 + 热轧 + 真空退火 + 抛光

  • 表面状态:深灰色 / 抛光光亮 / 无氧化层


性能特点

  • 超高熔点(3017 °C):可承受极端高温环境。

  • 极强的化学惰性:在酸性环境中不被腐蚀。

  • 高密度与良好延展性:便于机械加工与焊接。

  • 真空稳定性优越:低蒸气压,适合高真空系统。

  • 优异导电与导热性:适用于电子与电极材料。


应用领域

  • 化工与设备制造:用于反应釜、热交换器、泵体、管道等耐腐蚀部件。

  • 电子与真空工业:用于电子管、阴极、电容器阳极及溅射靶材。

  • 航空航天:用于高温组件与推进系统部件。

  • 半导体与薄膜技术:用作电极层或掩膜板。

  • 医疗行业:用于外科植入物及放射防护装置。


技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9–99.99% 高纯钽金属
密度 16.65 g/cm³ 高密度结构
熔点 3017 °C 超高熔点金属
沸点 5458 °C 热稳定性极佳
电导率 7.6 × 10⁶ S/m 导电性能良好
热导率 57 W/m·K 稳定导热性能
抗拉强度 200–750 MPa 延展性强
延伸率 20–40% 高塑性
硬度 HV 120–200 可退火调控
磁性 适用于真空系统

常见问题(FAQ)

问题 答案
钽板是否具磁性? 无磁性。
是否可用于真空设备? 是,非常适合高真空与超高真空系统。
是否耐酸碱腐蚀? 对大多数酸碱环境高度稳定。
是否可抛光? 可提供镜面抛光版本。
是否易氧化? 表面形成致密氧化膜防止进一步氧化。
是否提供检测报告? 附纯度及化学成分分析报告。
是否符合RoHS/REACH? 是。
是否支持小批量? 支持科研样品及定制供货。
是否可焊接? 可通过真空焊或惰性气体保护焊接。
交货周期? 常规规格2–3周内交付。

包装与交付

所有钽板出厂前均经真空退火与纯度检测处理,采用真空密封、防潮、防氧化包装,外层为出口级木箱防护。
随附 COC、RoHS/REACH 文件与检测报告

其他信息

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T

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.