钼铟靶材（MoIn）

产品简介（Introduction）

钼铟靶材（MoIn）由高熔点金属钼（Mo）与延展性优良的铟（In）组成，是一种兼具高温稳定性、可控电阻率与良好结构特性的功能型合金靶材。钼具有极高的熔点、硬度和抗腐蚀性，而铟具备低熔点、优异润湿性和良好导电性。两者结合后的 MoIn 靶材表现出更佳的成膜稳定性、界面结合性和可控薄膜特性。

MoIn 薄膜常用于光电薄膜、电极金属层、阻挡层及多层结构膜，是磁控溅射与薄膜研究领域中较具潜力的功能材料。

产品详情（Detailed Description）

MoIn 靶材通常通过真空熔炼、热压烧结（HP）、冷等静压（CIP）与热等静压（HIP）制备，以确保材料组织均匀、杂质含量低和致密度高。精密表面加工确保其在 DC / RF 磁控溅射过程中的放电稳定性。

● 典型规格参数

• 纯度（Purity）： 99.9% – 99.99%

• 常见成分比（Composition，可定制）：

  • Mo-5%In

  • Mo-10%In

  • Mo-20%In

  • 亦可按原子比或重量比完全定制

• 尺寸（Size）： Ø25–300 mm，或定制矩形靶

• 厚度（Thickness）： 2–6 mm（可制薄靶）

• 工艺（Process）： Vacuum Melting / HP / CIP / HIP

• 背板（Bonding）： Cu / Ti / In 背板可选

● 材料特性

• 优异的高温稳定性与抗热冲击能力

• 膜层附着性强

• 导电性可调控

• 结构致密、颗粒率低

• 适合制备 MoIn-O / MoIn-N 反应性薄膜

• 在高功率溅射下放电稳定

应用领域（Applications）

1. 光电薄膜（Optoelectronic Thin Films）

MoIn 可用于：

• 金属功能层

• 导电结构膜

• 薄膜太阳能电池底电极

• 光电器件中间层

2. 半导体金属薄膜（Semiconductor & IC Films）

钼的高温稳定性 + 铟的界面柔性，使 MoIn 适用于：

• 阻挡层（Barrier Layer）

• 接触金属层（Contact Layer）

• 多层金属堆栈膜（Stacked Films）

3. 耐腐蚀与结构保护膜（Protection & Barrier Coatings）

MoIn 薄膜能提供：

• 良好耐蚀性

• 抗氧化性能

• 较高硬度

• 结构稳定性

用于：

• 精密器件防护膜

• 机械部件表面强化

4. 科研与材料工程（R&D Applications）

适合：

• 金属-低熔点合金复合膜研究

• 可控制薄膜电阻率研究

• 多层膜界面工程

• 稀有金属功能材料探索

技术参数（Technical Parameters）

材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

1. MoIn 是否适合 RF 溅射？
适合，可用于 DC / RF / HiPIMS。

2. 可否做大尺寸靶材？
可以，Ø200 mm、Ø300 mm 均可生产。

3. MoIn 膜层能否耐受高温？
具备优良热稳定性，可用于高温退火系统。

4. 是否支持反应性溅射？
支持制备氧化、氮化复合薄膜。

5. 成分可否自由定制？
可根据您的工艺需求调整铟含量。

包装（Packaging）

• 真空密封

• 干燥剂防潮

• 多层防震包装

• 出口级硬箱或木箱

• 每片靶材附带 COA 与唯一批号

结论（Conclusion）

钼铟靶材（MoIn）结合了钼的高温性能与铟的柔性与导电特性，是光电薄膜、半导体金属层与结构保护膜的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司长期提供高纯度、高致密度 MoIn 靶材，支持全尺寸与成分定制。

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