钼管(Mo)

高纯钼管具有极高熔点、优异导热性与低蒸气压,适用于真空炉、热处理、半导体和光学镀膜系统。纯度可达99.99%,结构致密、表面光洁,支持定制加工与科研应用。

描述

钼管(Mo Tube)

产品简介

钼管(Mo Tube)是一种由高纯钼(Purity ≥ 99.9%)制成的高温耐腐蚀金属管材,具有极高的熔点(2620°C)、优异的导热性与抗蠕变性能。钼在真空和惰性气氛中表现出极强的热稳定性,且具有较低的蒸气压,非常适合高温和真空环境使用。
高纯钼管广泛应用于真空炉、半导体设备、光学镀膜、热屏蔽及电子结构件等领域,是高温工程与薄膜技术中的关键材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的钼管采用高纯钼粉经冷等静压(CIP)—真空烧结—热等静压(HIP)—精密加工工艺制备,组织致密、晶粒细小、表面光洁。产品符合 ASTM B387 标准,可选纯钼(Mo)或掺钾钼(Mo-La, Mo-K)。

典型规格如下:

  • 纯度等级:99.9%、99.95%、99.99%

  • 外径范围:3 – 100 mm

  • 壁厚范围:0.5 – 8 mm

  • 长度:≤2000 mm(可定制)

  • 制造工艺:CIP + 真空烧结 + HIP + 精密车削 + 抛光

  • 表面状态:银灰色金属光泽 / 抛光 / 去氧化膜

高纯钼管具有高导热率、低膨胀系数和良好的延展性,能在高温下保持极高的结构稳定性。

应用领域

钼管在高温和真空环境中广泛应用于:

  • 真空与热处理设备:用于加热元件、热屏蔽与反应管。

  • 半导体制造设备:用于PVD/CVD腔体内的导管和支撑结构。

  • 光学镀膜系统:用于蒸发源管与反射结构件。

  • 科研与实验装置:用于高温反应与材料烧结实验。

  • 冶金与能源领域:用于电极管、保护管及熔炼系统。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.99% 高纯度确保高温稳定性
密度 10.2 g/cm³ 接近理论密度
熔点 2620 °C 可在高温环境长期使用
热导率 142 W/m·K 优异的导热性能
电导率 19 × 10⁶ S/m 稳定导电性能
抗拉强度 ≥600 MPa 高强度抗蠕变性能
热膨胀系数 4.8 × 10⁻⁶ /K 热变形小
工艺 CIP + HIP + 抛光 提高密度与表面质量

常见问题(FAQ)

问题 答案
钼管能否耐高温? 可在2000°C以上真空或惰性气氛中长期使用。
是否适合真空系统? 是的,钼蒸气压极低,非常适合UHV系统。
是否具磁性? 无磁性,适用于磁场敏感装置。
是否可电抛光? 可提供镜面、电解抛光或酸洗处理。
是否可焊接? 可采用电子束焊或真空钎焊。
可否制作薄壁管? 可定制最小壁厚0.5 mm。
是否提供检测报告? 每批产品附纯度、密度与尺寸检测文件。
可否定制长度? 支持≤2000 mm定制,长管需分段拼接。
是否可与其他金属复合? 可提供钼铜、钼钛等复合结构。
是否支持科研样品? 支持单件试制与批量供货。

包装与交付

每根钼管出厂前均经显微检测与真空退火。产品采用真空密封、防震、防潮包装,并装入出口级木箱。可提供RoHS、REACH、COC及材质分析报告,支持国际空运。

结论

钼管(Mo Tube)以其高熔点、良好的导热性和优异的真空稳定性,被广泛用于真空设备、半导体工艺及科研高温系统,是高端制造中的关键材料。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.