钴靶材（Co Sputtering Target）

产品简介（Introduction）

钴（Cobalt, Co）是一种具有强磁性、优异耐腐蚀性与良好热稳定性的金属，是磁性薄膜、半导体、电极层及耐磨涂层领域中的重要材料。钴靶材常用于制备磁记录膜、传感器薄膜、Co基合金膜及功能性涂层，在微电子、光学与能源行业中具有不可替代的地位。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度钴靶材（纯度99.9%–99.99%），采用真空熔炼、热等静压（HIP）或冷等静压（CIP）工艺制造，保证靶材致密度高、组织均匀、无裂纹、无夹杂。
钴靶材可制成 圆形、矩形、环形及异形规格，兼容 DC / RF 磁控溅射系统，在薄膜沉积过程中具有极高的稳定性。
可为高功率溅射提供 铜（Cu）、钛（Ti）、铟焊（In Bonded）背板，提升热传导效率与机械强度，延长靶材使用寿命。

技术优势

• 高纯度（3N–4N），提升薄膜磁性、导电及结构稳定性；

• 高致密度，表面平整，溅射均匀性优异；

• 溅射速率稳定，适用于高端磁性镀膜；

• 可制备CoFe、CoNi、CoCr等磁性与功能合金薄膜；

• 多种尺寸、形状及背板结构可定制。

应用领域（Applications）

1. 磁性薄膜

• 磁记录介质（MRAM、硬盘磁头）

• 软磁合金薄膜（CoFe、CoNi）

• GMR / TMR 器件结构层

2. 半导体与电子器件

• 扩散阻挡层

• 金属互连与电极层

• 高频电子元件材料

3. 光学与防护涂层

• 耐磨膜、吸收膜

• 表面强化涂层

• 高温防护膜

4. 能源与功能材料

• 电极薄膜（氢存储、催化电极）

• Co基复合材料膜

5. 科研方向

• Co掺杂氧化物、氮化物、碳化物薄膜

• 多层结构磁性薄膜研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

所有钴靶材均：

• 真空密封

• 贴附批次溯源码

• 使用防震与防潮保护

• 外层采用出口级包装确保运输安全

结论（Conclusion）

钴靶材凭借优异的磁性、耐腐蚀性与结构稳定性，是磁性薄膜、半导体及功能涂层制备中的核心材料之一。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度的Co靶材，并可提供专业背板焊接，确保薄膜沉积质量稳定可靠。

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