钴镍靶材（CoNi）

产品简介（Introduction）

钴镍靶材（CoNi）由钴（Co）与镍（Ni）组成，是一种具有优异磁性、耐腐蚀性与良好成膜性能的二元合金靶材。Co 提供高机械强度、磁性能与稳定的金属结合性，而 Ni 具有优良延展性、抗腐蚀能力与电学稳定性。两者结合形成的 CoNi 薄膜在磁性器件、电子结构层、功能涂层以及真空镀膜技术中具有广泛应用。

由于其磁性可调、膜层致密、稳定性优异，CoNi 已成为磁性薄膜、电子器件与工程功能膜的重要靶材之一。

产品详情（Detailed Description）

CoNi 靶材通常通过粉末冶金工艺制备，包括混料、球磨、冷等静压（CIP）、真空烧结或热等静压（HIP），可达到 95–99% TD 的高致密度，有利于减少溅射颗粒、提升薄膜均匀性与工艺稳定性。

典型参数与规格

• 纯度（Purity）：99.9% – 99.99%

• 常见配比（Composition）：

  • Co50Ni50

  • Co60Ni40

  • Co70Ni30

  • 接受所有 Co/Ni 配比定制

• 尺寸（Diameter）：Ø25 – 300 mm

• 厚度（Thickness）：3 – 6 mm，可做薄靶

• 致密度（Density）：≥95–99% TD

• 工艺（Process）：CIP + Vacuum Sintering / HIP

• 可选背板（Bonding）：In 焊（Indium Bonding）、Cu 背板、Ti 背板

主要性能优势

• 可调磁性（软磁 / 中磁），适用于磁应用

• 成膜均匀，稳定性高

• 硬度适中，结合力强

• 优异耐腐蚀、电学稳定性好

• 颗粒率低，适用于高要求薄膜系统

• 支持 DC / RF 溅射

应用领域（Applications）

1. 磁性薄膜（Magnetic Thin Films）

• 软磁结构层

• 多层磁阻结构（GMR/TMR）

• 传感器磁性膜

• 磁记录技术

CoNi 是磁应用中常用的可调磁性材料。

2. 半导体与电子薄膜（Semiconductor & Electronics）

• 电极层

• 扩散阻挡层

• 接触层

• 结构强化层

3. 工程功能涂层（Engineering Films）

• 耐腐蚀金属膜

• 耐磨结构层

• 表面增强膜

4. 光学薄膜（Optical Coatings）

• 结构支撑层

• 金属反射增强层

• 光学耐蚀保护膜

5. 科研与材料开发（R&D）

• 合金磁性调控研究

• 自旋电子学（Spintronics）

• CoNi-O、CoNi-N 反应性薄膜开发

技术参数（Technical Parameters）

对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

• 真空密封

• 多层防震保护

• 防氧化储存

• 出口级木箱包装

• 每片附唯一批次号与检验报告

结论（Conclusion）

钴镍靶材（CoNi）凭借可调磁性、良好成膜性、耐腐蚀性与结构稳定性，在磁性薄膜、电子器件、光学膜层与工程防护应用中表现出色。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯高致密 CoNi 靶材，并支持定制成分与背板焊接。

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