钴粉(Co)

描述

钴粉(Co)

产品简介

钴粉(Cobalt Powder,化学式 Co)是一种具有 高磁性、高硬度与优良耐腐蚀性 的功能金属粉末。
它是制造 永磁材料、硬质合金、催化剂、电池电极与真空元件 的关键原料。
钴粉兼具金属光泽与强磁特性,常用于 磁性元件制造、粉末冶金烧结与高温结构材料 中。

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度(99.8%–99.99%)钴粉,形貌可选 球形或不规则颗粒,氧含量低,适合科研及工业应用。


产品详情

钴粉呈 深灰色至银灰色金属粉末,具有较强的铁磁性与导电性。
采用 氢还原法、气雾化法或电解法 制备,颗粒分布均匀、分散性优良。

主要特点:

  • 高磁性(铁磁材料),可用于永磁及软磁材料;

  • 耐高温、抗氧化性能强

  • 高纯度低氧化,适合真空环境;

  • 良好的导电性与烧结活性

  • 可定制粒径与形貌。


应用领域

  • 🧲 磁性材料:制造钴基永磁体、软磁合金与磁芯;

  • ⚙️ 硬质合金粘结剂:用于碳化钨(WC-Co)刀具与模具;

  • 🔋 新能源电池:用于锂电池正极、燃料电池电极;

  • 🧪 化学催化剂:用于 Fischer–Tropsch 合成与加氢反应;

  • 💡 粉末冶金与3D打印:用于高温结构件与热喷涂材料。


技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
化学式 Co 功能金属粉末
纯度 99.8% – 99.99% 高纯金属级
外观 深灰色金属粉末 均匀细腻
粒径范围 1 – 45 μm(可定制) 适配烧结与喷涂工艺
制备方法 氢还原 / 雾化 / 电解 纯度高、氧含量低
密度 8.9 g/cm³ 高密度磁性金属
熔点 1495°C 耐高温特性
电导率 1.6×10⁷ S/m 导电性优
磁性 铁磁性 永磁合金核心元素
氧含量 <0.05% 真空应用稳定性高

相关材料对比

材料 主要优势 典型应用
Co(钴) 高磁性、耐热性强 硬质合金、电极、磁体
Ni(镍) 导电、耐蚀性好 电极、催化剂
Fe(铁) 成本低、强磁性 软磁材料
Co-Cr 合金 耐腐蚀、生物兼容 医疗与航空材料

常见问题(FAQ)

问题 答案
钴粉的主要用途是什么? 用于磁性材料、硬质合金、电极与电池正极。
是否具有磁性? 是,钴为强磁性金属。
是否可用于碳化钨合金? 是的,作为 WC 粘结剂使用。
是否可用于锂电池? 可,用于正极材料与导电添加剂。
是否可提供球形粉? 可提供 AM 级气雾化球形钴粉。
熔点是多少? 1495°C。
是否易氧化? 稳定性良好,建议惰性气氛保存。
是否可用于3D打印? 可,用于高温结构与功能元件。
是否环保? 无铅无镉,符合 RoHS 与 REACH。
包装方式? 真空密封、防潮铝箔袋或瓶装。

包装与交付

所有钴粉在出厂前均经过 ICP 成分检测、O/N 含量分析与磁性能测试
采用 真空密封 + 防潮铝箔袋 包装,防止氧化与团聚。
提供 100 g、500 g、1 kg、25 kg 等规格,适合科研与批量生产。


结论

钴粉以其 高磁性、高温稳定性与优良机械性能,在磁性材料、硬质合金与新能源领域具有重要地位。
苏州科跃材料科技有限公司可提供多种粒径、形貌与纯度等级的高性能钴粉,满足科研与工业需求。

📩 如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.