钯靶材（Pd）

产品简介（Introduction）

钯靶材（Palladium Sputtering Target）是贵金属系列中应用广泛的高端薄膜材料，因其优异的化学稳定性、可控电学性能与良好的延展性，被广泛用于半导体工艺、光催化薄膜、储氢材料、电极制造、光学镀膜等领域。

钯具有低表面电阻、良好附着性与极高的薄膜稳定性，能够在微电子器件及先进材料制备中实现优异的膜层均匀性、可靠性与长期稳定性，是高端制造和科研应用的重要材料。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司提供的钯靶材具有以下特点：

• 纯度： 99.9%–99.99%（3N–4N）
  高纯度可显著减少膜层缺陷，提高薄膜的电学与化学稳定性。

• 尺寸范围： 直径 25–300 mm，可按设备型号定制；常规厚度 3–6 mm。

• 制造工艺：

  • 真空熔炼

  • 冷加工/热加工

  • 多道次轧制

  • 精密机加工

  • 提供高致密度烧结（≥98% TD）
    高致密靶材可提高溅射速率、保持膜层均匀性并减少颗粒脱落。

• 可选背板结合：
  铜（Cu）、钛（Ti）、铟焊（In-Bonding）
  提升散热性能，使靶材在高功率溅射中保持稳定性并延长使用寿命。

钯靶材表面光洁、组织均匀，适用于高真空、多工况设备，保证薄膜的可控性与重复性。

应用领域（Applications）

钯靶材在多个先进行业中发挥核心作用：

• 半导体薄膜沉积
  用于电极层、栅极层、金属阻挡层、接触层等。

• 传感器与光电器件
  气体传感器、红外探测器、薄膜电触点。

• 储氢材料研究
  Pd 拥有优异的吸氢性能，可用于氢吸附/脱附实验薄膜。

• 光学镀膜
  用于反射膜、吸收膜、红外滤光膜。

• 功能性涂层
  耐腐蚀镀膜、催化薄膜、电化学薄膜。

• 新能源产业
  SOFC、薄膜燃料电池、微电极薄膜制造。

• 科研领域
  合金研究、微结构薄膜制备、量子器件薄膜等。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

• 真空密封包装

• 防震珍珠棉保护

• 出口级木箱或纸箱

• 附唯一溯源标签及检测记录

确保运输过程中无污染、无划伤、无氧化。

结论（Conclusion）

钯靶材以其优异的电学性能、化学稳定性与良好的工艺适应性，在半导体、光电、传感器、催化与新能源行业中发挥着关键作用。其高纯度、高致密度的特点可保证薄膜沉积的精确性和稳定性，是高端科研及工业应用的理想选择。

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