钨粉(W)

描述

钨粉(W)

产品简介

钨粉(Tungsten Powder,化学式 W)是一种 超高熔点、高密度与优异导电导热性能 的金属粉末。
其熔点高达 3422°C,是所有金属中最高的之一,广泛用于 钨制品制造、真空电子、硬质合金、喷涂涂层与3D打印 等高科技领域。

苏州科跃材料科技有限公司供应高纯度(99.9%–99.99%)钨粉,颗粒均匀、流动性好、氧含量低,适合科研与工业应用。


产品详情

钨粉呈 深灰色至黑灰色金属粉末,采用 氢气还原法或等离子雾化法 制备。
具有极高的热稳定性和化学惰性,可在真空或惰性气氛中长期保持稳定结构。

主要特点:

  • 超高熔点(3422°C),耐极端高温;

  • 高密度(19.3 g/cm³),硬度极高

  • 导电与导热性能优异

  • 低氧含量、高纯金属级

  • 可与铜、镍、钼等形成多种合金。


应用领域

  • ⚙️ 粉末冶金与硬质合金:制造钨棒、钨丝、钨坩埚与WC-Co刀具;

  • 💡 真空电子与高温部件:用于灯丝、电极、热屏蔽结构;

  • 🔋 能源与电接触材料:用于电极、电弧触点及热管理系统;

  • 🧲 喷涂与耐磨涂层:用于高温、耐腐蚀与防磨损应用;

  • 🧪 科研与镀膜制备:用于溅射靶、蒸发源与合金研究。


技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
化学式 W 超高熔点金属粉
纯度 99.9% – 99.99% 高纯科研级
外观 深灰色金属粉末 颗粒均匀细腻
粒径范围 1 – 45 μm(可定制) 影响烧结与流动性
制备方法 氢还原 / 雾化 控制氧含量与颗粒结构
密度 19.3 g/cm³ 极高密度金属
熔点 3422°C 金属中最高熔点之一
电导率 1.8×10⁷ S/m 导电性能优良
热导率 173 W/m·K 散热性能优越
氧含量 <0.08% 保证真空工艺稳定性

相关材料对比

材料 主要优势 典型应用
W(钨) 高熔点、高密度 真空冶金、硬质合金
Mo(钼) 轻质、高温性能好 电极、涂层
Ta(钽) 耐腐蚀、延展性高 电容器、真空镀膜
W-Cu 合金 导热与抗冲击性平衡 电极与散热件

常见问题(FAQ)

问题 答案
钨粉的主要用途是什么? 用于硬质合金、电极、真空部件与高温材料。
是否具有磁性? 无磁性,适用于电子与真空应用。
是否导电? 是的,导电性能优异。
是否可用于3D打印? 可提供球形雾化钨粉。
是否易氧化? 高温下易氧化,需真空或惰性储存。
是否可定制粒径? 可提供 1–100 μm 不同规格。
熔点是多少? 3422°C,为金属中最高之一。
是否环保? 无毒、可回收,符合 RoHS 与 REACH。
是否适用于镀膜? 可作为蒸发源与溅射靶材料。
包装方式? 真空密封、防潮铝箔袋或瓶装。

包装与交付

所有钨粉出厂前均经过 ICP 杂质分析、O/N 含量检测与SEM 形貌分析
采用 真空密封 + 防潮铝箔袋包装,防止氧化与团聚。
提供 100 g、500 g、1 kg、25 kg 等规格,支持科研与工业批量交付。


结论

钨粉以其 超高熔点、高密度与稳定物理性能,在高温冶金、真空技术与硬质合金制造中发挥关键作用。
苏州科跃材料科技有限公司可提供多粒径、高纯度、形貌均匀的钨粉,满足科研及工业制造需求。

📩 如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.