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钛（Titanium, Ti）是一种轻质、高强度且具优异耐腐蚀性能的金属材料，在真空镀膜、半导体制造及光学薄膜制备中应用极为广泛。钛靶材以其良好的化学稳定性与膜层附着性，成为PVD与磁控溅射工艺中常用的基础材料之一。其形成的Ti或TiO₂薄膜具有优异的机械、光学与电学性能，广泛服务于高科技产业。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度钛靶材（纯度99.5%–99.999%），采用真空熔炼、冷等静压（CIP）与热等静压（HIP）工艺制造。靶材结构致密、成分均匀、表面光洁，适配多种真空镀膜系统（DC/RF溅射）。
可提供圆形、矩形、环形或异形靶材，并可选用铜（Cu）、钛（Ti）或铟焊（In Bonded）背板结合，以提升热传导性与机械稳定性。
高纯度、低氧含量，减少薄膜杂质与缺陷；
致密均匀的微结构，膜层均匀性优良；
出色的附着性与可加工性；
可进行背板焊接以延长靶材寿命。
半导体器件：用于金属电极层、扩散阻挡层及粘附层；
光学镀膜：制备高透光率TiO₂膜层，用于滤光片与反射镜；
能源材料：在太阳能电池、燃料电池及氢储存系统中作为功能膜；
装饰与防护涂层：用于建筑玻璃、汽车零件及工具镀膜；
科研与实验：用于复合薄膜、掺杂薄膜与新材料制备。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.5% – 99.999% | 高纯度确保薄膜性能稳定 |
| 直径 | 25 – 300 mm（可定制） | 适配多种溅射设备 |
| 厚度 | 3 – 6 mm | 影响沉积速率与膜层厚度 |
| 密度 | ≥ 4.51 g/cm³ | 致密性高，溅射效率优良 |
| 背板结合 | Cu / Ti / In 焊 | 增强散热能力与机械强度 |
| 制备工艺 | CIP / HIP / 真空熔炼 | 微观组织均匀，性能稳定 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| 钛靶材适用于哪些溅射系统？ | 兼容直流（DC）与射频（RF）磁控溅射系统。 |
| 钛靶材沉积的薄膜有何特性？ | 可形成高致密度Ti或TiO₂薄膜，具优异光学与化学稳定性。 |
| 是否可用于光学镀膜？ | 是，常用于滤光片、反射镜和装饰膜。 |
| 是否能与其他靶材共溅射？ | 可以，与Si、Al、N、O等共溅射以制备复合薄膜。 |
| 可否提供背板结合？ | 可选Cu、Ti或In焊接以增强热传导性能。 |
| 是否支持定制？ | 可根据客户需求定制形状、尺寸与纯度。 |
| 是否适合用于氧化膜制备？ | 是，常用于TiO₂薄膜的光学与光催化应用。 |
| 靶材是否易氧化？ | 钛表面易形成稳定氧化层，建议在惰性气氛下保存。 |
| 包装方式？ | 采用真空密封、防震泡沫及防潮包装，确保运输安全。 |
钛靶材凭借优异的耐腐蚀性、附着性与可控薄膜性能，广泛应用于光学镀膜、半导体、电学与能源领域。苏州科跃材料科技有限公司可提供科研级与工业级高纯钛靶材，满足多种真空沉积需求，确保稳定可靠的薄膜性能。
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📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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