钛锆靶材(TiZr)

钛锆靶材(TiZr)

产品简介(Introduction)

钛锆靶材(TiZr)是由钛(Ti)与锆(Zr)组成的高稳定性金属合金溅射靶材,具有优异的耐腐蚀性、良好的力学性能、高温结构稳定性,以及在薄膜沉积中表现出的高附着力与低应力特性。Ti 与 Zr 原子半径接近、化学行为相似,因此 TiZr 合金具有良好的固溶特性,适用于制备均匀、致密、低缺陷的功能薄膜。

TiZr 被广泛应用于半导体、光学镀膜、核材料研究、传感器、装饰涂层以及高温结构薄膜等先进制造领域。


产品详情(Detailed Description)

材料特性

  • 高纯度(99.5%–99.99%),薄膜缺陷少

  • 高致密度(≥97%),溅射过程颗粒率低

  • 均匀的 Ti-Zr 固溶体结构

  • 极佳耐腐蚀性与氧化稳定性

  • 适用于高温与真空环境

  • 成膜应力低、附着力出色

  • 支持 DC / RF / 磁控溅射

常见成分比例

  • Ti90Zr10

  • Ti80Zr20

  • Ti70Zr30

  • 或根据客户电学/薄膜结构需求定制 Ti/Zr 比例

可供规格

  • 直径:25–300 mm

  • 厚度:3–6 mm(支持薄靶)

  • 形状:圆靶、矩形靶、弧形靶

  • 纯度:3N–4N

  • 背板选项:铜 Cu、钛 Ti、铟焊 In-bonding

  • 表面粗糙度:Ra < 0.8 μm(可提供精抛版)


应用领域(Applications)

1. 半导体与微电子

TiZr 因为电学稳定与附着性强,用于:

  • 粘附层(Adhesion Layer)

  • 扩散阻挡层

  • 介电层与金属层之间的界面结构

  • 多层金属堆栈中的过渡层


2. 光学镀膜(Optical Coatings)

TiZr 可形成高致密、光学性能稳定的薄膜:

  • 反射膜

  • 抗反射膜(AR)

  • 中红外薄膜

  • 光学结构保护层


3. 耐腐蚀与耐高温薄膜

Ti 与 Zr 都具有高化学稳定性,适用于:

  • 耐腐蚀涂层

  • 抗氧化高温膜

  • 真空与核工业材料界面层


4. 科研实验薄膜

  • 金属固溶体研究

  • 多层结构膜沉积

  • 应力调控与薄膜稳定性研究

  • 功能性合金薄膜开发


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.5%–99.99% 高纯减少薄膜缺陷
成分 Ti/Zr 可定制 决定薄膜电阻与结构
致密度 ≥97% 溅射更均匀、颗粒少
尺寸 25–300 mm 兼容主流设备
厚度 3–6 mm 支持长寿命靶材
背板 Cu / Ti / In 提高散热与稳定性

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 优势 应用
TiZr 高附着性 + 高耐腐蚀 粘附层、光学保护层
Ti 良好附着性 电子薄膜、粘附层
Zr 高温稳定、耐腐蚀 结构膜、光学膜
HfZr 高介电常数 半导体高 k 薄膜

常见问题(FAQ)

1. TiZr 是否适用于 RF 和 DC 溅射?
是的,适用于所有主流 PVD 工艺。

2. TiZr 与纯 Ti 相比有什么优势?
TiZr 薄膜更稳定、耐腐蚀性更强,长期可靠性更佳。

3. 能否制备大尺寸靶材?
可提供 4″、6″、8″、12″ 等主流尺寸。

4. 配比可以定制吗?
完全支持,根据电阻率、附着需求调节 Ti/Zr 比例。

5. 是否提供检测报告?
可提供 ICP、密度、粗糙度等数据。


包装与交付(Packaging)

  • 双层真空密封

  • 内部防震泡棉

  • 外箱为出口级包装

  • 全程附批次标签可追踪


结论(Conclusion)

钛锆靶材(TiZr)兼具轻质金属与难熔金属的性能优势,在半导体、光学、耐腐蚀涂层、结构薄膜及科研领域具有广泛应用价值。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、成分可定制的 TiZr 靶材,满足科研及量产需求。