钛铝靶材（TiAl）

产品简介（Introduction）

钛铝靶材（TiAl）由钛（Ti）与铝（Al）组成，是一种兼具轻量化、高强度、优异耐腐蚀性与高温稳定性的功能性合金溅射靶材。Ti 与 Al 形成的金属间化合物（如 TiAl、Ti₃Al 等）具有出色的热稳定性与结构强度，使 TiAl 薄膜在耐热薄膜、光电薄膜、阻挡层、黏附层及多层复合结构中表现优异。

由于 TiAl 的密度低、熔点高、化学稳定性好，广泛用于半导体镀膜、装饰涂层、耐腐蚀薄膜及航空航天薄膜材料研发，是科研与工业常用的金属合金靶材之一。

产品详情（Detailed Description）

TiAl 靶材选用高纯钛粉、铝粉，经冷等静压（CIP）压制成型，再通过真空烧结（Vacuum Sintering）或热等静压（HIP）实现高致密化。材料组织均匀、成分稳定、不易开裂，可在高功率磁控溅射中保持一致的沉积速率与低颗粒输出。

典型产品参数：

• 纯度（Purity）：99.9%–99.99%

• 常见配比（Composition）：

  • Ti50Al50

  • Ti60Al40

  • Ti70Al30
    （可按工艺需求定制 Ti/Al 比例）

• 直径（Diameter）：Ø25–Ø300 mm

• 厚度（Thickness）：3–6 mm

• 致密度（Density）：≥95%–98% TD

• 工艺路线：CIP + 真空烧结 / HIP

• 背板（Bonding）：可搭配 Cu/Ti 背板或铟焊（In Bonding）

材料优势：

• 高温稳定，适用于耐热与结构膜

• 成膜均匀、膜层致密

• 较低颗粒率，适合高端薄膜制程

• 优异的耐腐蚀性

• 与 Si、玻璃及金属基底附着性良好

• 密度低，适合轻量结构薄膜

应用领域（Applications）

钛铝靶材在高温结构薄膜、光学薄膜和金属工程薄膜中均表现突出：

1. 半导体与电子薄膜（Semiconductors）

• 耐热金属层

• 多层复合结构的过渡层

• 电极层 / 阻挡层

• 结构强化薄膜

2. 光学镀膜（Optical Coatings）

• 高反射金属层

• 光学保护膜

• 多层光学复合结构

3. 航空航天材料（Aerospace Thin Films）

• 轻质耐热功能薄膜

• 结构增强金属膜

4. 装饰膜与耐腐蚀薄膜（Decorative & Protective Coatings）

• 装饰性金属膜

• 抗腐蚀防护膜

• 耐高温薄膜

5. 科研与材料设计

用于研究：

• TiAl 金属间化合物薄膜

• 轻量化薄膜结构

• 高温薄膜反应性研究

适用于 DC/RF 磁控溅射、反应溅射（N₂/O₂/Ar）、共溅射。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

• 真空密封防氧化

• 干燥剂防潮

• 防震泡沫独立固定

• 出口级硬箱 / 木箱

• 单片靶材配唯一批次号可追踪

结论（Conclusion）

钛铝靶材（TiAl）兼具轻量、高温与耐腐蚀特性，是结构薄膜、光学薄膜及半导体制造中非常重要的功能靶材。
苏州科跃材料科技有限公司可提供各种配比、尺寸与背板结构的 TiAl 靶材，满足科研及工业薄膜沉积需求。

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