钛管(Ti)

高纯钛管具有轻质、高强度和优异的耐腐蚀性能,适用于化工设备、真空系统、医疗及航空航天领域。纯度可达99.9%,支持尺寸与表面定制,符合ASTM B338标准。

描述

钛管(Ti Tube)

产品简介

钛管(Ti Tube)是一种由高纯钛(Purity ≥ 99.5%)或钛合金制成的轻质耐腐蚀金属管材,兼具高强度、低密度与优异的生物相容性。钛表面能自动形成一层致密的氧化膜,使其在酸、碱及海水环境中表现出极强的抗腐蚀能力。高纯钛管广泛应用于航空航天、化工设备、海洋工程、医疗器械及真空系统中。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的钛管采用高纯钛锭(Gr1–Gr4)通过真空熔炼—挤压—冷拉—退火—抛光工艺制备而成。产品组织致密、表面光洁、机械性能稳定,符合 ASTM B338、ASTM B861 等国际标准。

典型规格如下:

  • 纯度等级 / 材质:Gr1, Gr2, Gr3, Gr4(纯钛) / Gr5 (Ti-6Al-4V)

  • 外径范围:3 – 100 mm

  • 壁厚范围:0.3 – 5 mm

  • 长度:≤3000 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空熔炼 + 热挤压 + 冷拉 + 真空退火 + 精抛光

  • 表面状态:金属亮光 / 亚光 / 酸洗 / 抛光

高纯钛管具有优异的力学性能与耐蚀性,可在高温、高压及强酸碱介质中长期稳定使用。

应用领域

钛管在多个领域中有广泛应用:

  • 化工与海洋工程:用于换热器、冷凝器及腐蚀性液体输送系统。

  • 航空航天:用于液压系统、燃油导管及结构支撑件。

  • 医疗器械:用于植入导管、骨科器械与生物兼容部件。

  • 真空与电子工业:用于真空腔体、支撑结构及蒸发源组件。

  • 新能源与电化学系统:用于氯碱电解、电极及冷却循环系统。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.5% – 99.9%(纯钛) 高纯度确保耐蚀与导热性能
密度 4.51 g/cm³ 轻质高强结构材料
熔点 1668 °C 具有高温稳定性
抗拉强度 350 – 950 MPa 取决于等级(Gr1–Gr5)
延伸率 20% – 35% 优异的成形性能
热导率 22 W/m·K 中等热导性
工艺 真空熔炼 + 退火 + 抛光 确保高纯度与均匀结构

常见问题(FAQ)

问题 答案
钛管是否耐腐蚀? 是的,对海水、酸、碱及氯化物均有极强耐蚀性。
可否用于真空环境? 可以,钛气体释放率低,非常适合真空系统。
是否具磁性? 无磁性,适用于磁场敏感设备。
是否可焊接? 可进行氩弧焊、电子束焊或真空焊接。
可否定制尺寸? 支持内外径、壁厚与长度的精密定制。
是否提供抛光表面? 可提供镜面、电解抛光与酸洗处理。
可否用于医疗器械? 可,钛具有优异生物相容性,常用于植入件。
可否用于高温工况? 在400°C以下可长期使用,短期可耐600°C以上。
是否附带检测报告? 提供化学成分、尺寸与力学性能检测报告。
是否支持小批量? 可供科研样品与批量订单。

包装与交付

所有钛管出厂前均经尺寸与表面检测。产品真空密封、防震防潮包装,并装入出口级木箱。可附带RoHS、REACH、COC及材质证明文件。

结论

钛管(Ti Tube)以其轻质、高强与卓越的耐腐蚀性能,被广泛用于真空、化工与医疗领域,是高端制造与科研的首选材料。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.