钙蒸发材料(Ca)

钙蒸发材料(Calcium Evaporation Material, Ca)是一种高反应活性、低功函数、蒸发效率高的碱土金属蒸发源,在真空电子器件、光电功能薄膜及前沿科研中具有重要价值。钙常被用于电子注入层、界面修饰层与还原性功能薄膜,能够显著改善载流子注入、界面能级匹配与器件性能。

在真空蒸发与 PVD 工艺中,高纯钙可在较低温度下实现稳定蒸发,但对环境与工艺控制要求较高,适合具备完善真空与防护条件的应用场景。

产品详情(Detailed Description)

钙蒸发材料选用高纯金属钙原料,经真空精炼与惰性气氛(Ar)全流程加工制备,严格控制 O、H₂O、N 等杂质与表面氧化,确保在高真空条件下具备可重复、可控的蒸发行为。

  • 纯度范围:99.5% – 99.99%(2N5–4N)

  • 材料形态:小块、颗粒、定制尺寸

  • 制造工艺:真空精炼 + 惰性气氛成形

  • 表面状态:极低氧化,适合高真空快速蒸发

高纯钙蒸发材料可有效:

  • 降低电子注入势垒,提升器件效率;

  • 实现快速、稳定的蒸发通量;

  • 改善薄膜界面接触与均匀性;

  • 满足科研级对成分与界面的精细调控需求。

注意:钙金属活性极高,易与空气和水分反应,需在惰性环境下操作与储存。

应用领域(Applications)

  • 有机电子与OLED:电子注入层(EIL)、界面修饰层

  • 真空电子器件:阴极相关功能层

  • 光电与功能薄膜:低功函数金属层

  • 反应蒸发体系:CaO 等氧化物薄膜前驱体

  • 科研实验:表面物理、界面工程与电子结构研究

技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.5% – 99.99% 影响界面与电子注入性能
形态 块状 / 颗粒 / 定制 适配不同蒸发源
单颗粒尺寸 可定制 影响蒸发速率稳定性
熔点 ~842 °C 适合中温蒸发
适用工艺 热蒸发(推荐) 活性金属更易控制
包装方式 真空或惰性气体密封 防止氧化与吸湿

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要优势 典型应用
钙(Ca)蒸发材料 低功函数、强还原性 电子注入与界面层
镁(Mg) 活性较低 OLED 电子注入层
铝(Al) 工艺稳定 通用电极薄膜
锂(Li) 功函数更低 高效电子注入

常见问题(FAQ — 聚焦应用)

Q1:钙蒸发材料适合哪种蒸发方式?
A:推荐热蒸发,便于控制其高反应活性。

Q2:钙在薄膜中的主要作用是什么?
A:降低功函数、改善电子注入与界面能级匹配。

Q3:对真空条件有什么要求?
A:要求较高,需高真空并尽量降低残余水氧。

Q4:钙薄膜容易氧化吗?
A:非常容易,通常作为界面层并需快速封装或覆盖。

Q5:是否可用于反应蒸发?
A:可以,常用于制备 CaO 等氧化物薄膜。

Q6:颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗?
A:会,均匀尺寸有助于稳定通量与膜厚控制。

Q7:是否适合量产应用?
A:可用于小规模量产,但需完善的惰性与真空管理。

Q8:是否适合科研级应用?
A:非常适合,常用于界面与电子结构研究。

Q9:如何储存钙蒸发材料?
A:必须真空或惰性气体密封,避免空气暴露。

Q10:是否支持定制规格?
A:支持,可按设备与工艺需求定制形态与尺寸。

包装与交付(Packaging)

所有钙蒸发材料在出厂前均经过严格质量检测,并建立完整批次追溯体系。产品采用真空或惰性气体密封、多重防护与出口级包装,最大限度降低活性金属在运输与储存过程中的风险。

结论(Conclusion)

钙蒸发材料(Ca)凭借其低功函数与强界面调控能力,在有机电子、真空电子器件与功能薄膜领域展现出独特价值。对于需要精细能级工程与高效电子注入的薄膜沉积应用,钙蒸发材料是一种高性能、但需严格工艺管理的专业选择。

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sales@keyuematerials.com