钕靶材（Nd Sputtering Target）

产品简介

钕（Neodymium, Nd）是一种银白色稀土金属，具有良好的导电性、磁性和化学稳定性。钕靶材凭借其独特的稀土电子结构，在磁光薄膜、光电器件、功能氧化物和新能源材料中发挥着重要作用。其制备的薄膜具有优异的光学透明性、磁光响应和高稳定性，被广泛用于磁光存储、光电转换与功能薄膜研究领域。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度钕靶材（纯度99.9%–99.99%），采用真空熔炼与热等静压（HIP）工艺制备，微观组织致密、成分均匀，表面光洁度高。
靶材可提供圆形、矩形、环形及定制形状，适配直流（DC）与射频（RF）磁控溅射系统。
根据客户需求，可配备铜（Cu）、钛（Ti）或铟焊（In Bonded）背板结合，以增强散热与结构稳定性。

技术特点

• 高纯度稀土金属（3N–4N），氧含量低；

• 致密结构，溅射均匀性优异；

• 良好的磁光性能与膜层附着性；

• 可与多种金属或氧化物共溅射；

• 支持大尺寸及异形靶定制。

应用领域

• 磁光材料：用于磁光存储膜、偏振器及传感器；

• 光学镀膜：用于反射膜、滤光膜及抗反射膜；

• 能源材料：用于太阳能电池、电极与催化层；

• 稀土功能薄膜：用于Nd掺杂氧化物与复合薄膜制备；

• 科研实验：用于稀土光电与磁性材料研究。

技术参数

常见问题（FAQ）

结论

钕靶材凭借优异的稀土光电性能与高纯度特性，是磁光、光学与能源领域薄膜制备的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度钕靶材及背板焊接服务，确保优异的溅射稳定性与膜层性能，广泛服务于科研机构及高端制造业客户。

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📧 sales@keyuematerials.com