钒铬靶材（VCr）

产品简介（Introduction）

钒铬靶材（VCr）由钒（V）与铬（Cr）两种过渡金属组成，是一种兼具良好延展性、优异耐腐蚀性、高温稳定性以及可调电学性能的功能合金靶材。钒提供出色的延展性与结构强度，而铬具有优秀的抗氧化能力与耐蚀能力，使 VCr 靶材能够制备出结构稳定、附着力强、耐腐蚀的高质量金属薄膜。

VCr 合金广泛用于半导体、光学镀膜、耐腐蚀薄膜、功能复合膜及科研薄膜工程，是多层金属结构膜中常用的中间层与强化层材料。

产品详情（Detailed Description）

VCr 靶材采用高纯金属钒与铬粉末，经冷等静压（CIP）压制后，通过真空烧结（Vacuum Sintering）或热等静压（HIP）完成致密化。成品靶材具有高致密度（≥95–98% TD）、成分均匀、机械稳定性好，并在磁控溅射中具备优异的耐裂与耐应力性能。

典型产品参数：

• 纯度（Purity）：99.9%–99.99%

• 成分比例（Composition）：V70Cr30、V60Cr40、V50Cr50 等，可按客户需求定制

• 直径（Diameter）：Ø25–Ø300 mm（1–4 英寸常规尺寸可选）

• 厚度（Thickness）：3–6 mm

• 致密度（Density）：≥95%–98% TD

• 制造工艺（Process）：CIP 成型 + 真空烧结 / HIP

• 背板（Bonding）：可提供 Ti / Cu 背板或铟焊（In Bonding）

材料特点：

• 优秀的抗氧化能力（来自 Cr）

• 良好的延展性与机械强度（来自 V）

• 成膜均匀、颗粒率低

• 适合高温、高湿、腐蚀性环境薄膜

• 电学性质可通过配比调控

• 膜层附着力强，适合作为中间层或结构增强层

应用领域（Applications）

钒铬靶材广泛应用于功能薄膜、工程薄膜和半导体薄膜结构中：

1. 半导体薄膜（Semiconductors）

• 金属粘附促进层

• 阻挡层

• 结构金属层

• 复合金属堆叠结构中的中间层

2. 光学镀膜（Optical Coatings）

• 反射增强膜

• 光学保护膜

• 多层光学结构过渡层

3. 耐腐蚀及保护薄膜（Corrosion-Resistant Films）

适用于：

• 化工设备涂层

• 海洋环境保护涂层

• 高温氧化环境保护膜

4. 机械与耐磨薄膜（Mechanical Films）

• 耐磨结构层

• 摩擦学薄膜

• 强化复合结构膜

5. 材料科学与科研应用

• 金属复合结构设计

• 氧化物/氮化物反应性薄膜研究

• V–Cr 合金相结构开发

适用于 DC / RF 磁控溅射、反应溅射（O₂ / N₂ / Ar）、共溅射。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

• 真空密封防氧化

• 干燥剂防潮

• 防震泡沫包装

• 出口级硬纸箱 / 木箱运输

• 每片靶材均带唯一批次编号，全程可追踪

确保靶材在运输与储存过程中保持洁净、完好、无污染。

结论（Conclusion）

钒铬靶材（VCr）以其卓越的耐腐蚀性、高温稳定性和薄膜附着性能，是半导体、光学、工程保护膜领域中重要的金属合金靶材。苏州科跃材料科技有限公司可生产不同规格、配比和背板结构的 VCr 靶材，为科研与工业客户提供稳定可靠的薄膜沉积材料方案。

如需技术数据或获取报价，请联系：
📩 sales@keyuematerials.com