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钒钨靶材(VW)由钒(V)与钨(W)组成,是一种兼具高熔点、强韧性、优异耐腐蚀性和稳定电学性能的难熔金属合金靶材。V–W 合金在高温结构薄膜、硬质涂层、防护膜及功能金属薄膜中表现突出,由于钨的超高熔点和钒的优良延展性,使 VW 靶材成为高强度、高稳定性薄膜制备的核心材料之一。
钒的加入能够有效改善钨的脆性与裂纹敏感性,同时提升薄膜的结合力与结构完整性,使 VW 靶材特别适用于要求高强度、高温稳定性与低缺陷的薄膜应用。
钒钨靶材采用高纯钒、钨原料,经冷等静压(CIP)成型,并通过真空烧结(Vacuum Sintering)或热等静压(HIP)进行致密化处理。靶材结构均匀、致密度高,可在高功率溅射条件下保持优异稳定性,且颗粒率低。
典型规格:
纯度(Purity):99.9% – 99.99%
成分比例(Composition):如 V10W90、V20W80、V30W70,可按需定制
直径(Diameter):Ø25 – Ø300 mm(支持 1″、2″、3″ 常规尺寸)
厚度(Thickness):3 – 6 mm
致密度(Density):≥95%–98% TD
工艺(Process):CIP + 真空烧结 / HIP
背板(Bonding):可选 Cu/Ti 背板或铟焊
材料优势:
极高耐热能力(W 熔点 3410 °C)
高强度与良好的韧性平衡
抗腐蚀性强,可承受酸、高温气氛
薄膜颗粒率低、成膜平稳
高硬度与抗磨性
适合连续长时间溅射
钒钨靶材在高温、耐磨、结构应用中具有广泛用途,典型包括:
结构防护膜
耐热层
航空航天部件薄膜
刀具涂层
模具表面强化膜
摩擦学表面保护层
金属阻挡层
过渡层
高强度结构薄膜
适用于:
化工环境
高温腐蚀介质
氧化性环境薄膜
金属玻璃体系研究
难熔合金薄膜探索
多层复合结构
支持 DC/RF 磁控溅射、反应溅射(Ar/O₂/N₂)、共溅射 工艺。
| 参数 | 范围 / 规格 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 薄膜纯度高、缺陷少 |
| 成分比例 | V/W 可定制 | 调控硬度、应力与耐温性能 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配主流溅射腔体 |
| 厚度 | 3–6 mm | 决定寿命与沉积速率 |
| 致密度 | ≥95–98% TD | 保证薄膜均匀性、低颗粒 |
| 背板 | Cu/Ti/In 焊 | 大尺寸推荐以提升散热 |
| 材料 | 特性 | 典型应用 |
|---|---|---|
| VW(钒钨) | 高温稳定 + 高强度 + 良好韧性 | 结构膜、耐磨膜、防护膜 |
| W(钨靶材) | 超高硬度、熔点极高 | 耐热、硬质涂层 |
| V(钒靶材) | 高延展性、轻质 | 粘附层、过渡层 |
| TiW(钛钨) | 导电性更好 | 半导体阻挡层 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| VW 靶材适合哪种溅射方式? | DC/RF 均可,金属体系 DC 使用更广。 |
| 是否可提供不同 V/W 比例? | 可以,10–90% 任意比例可定制。 |
| VW 薄膜是否易开裂? | 钒的加入可显著改善钨的脆性,抗裂性更强。 |
| 是否适合反应溅射? | 可在 Ar/O₂/N₂ 中稳定沉积。 |
| 是否推荐加背板? | 大尺寸靶材建议 Cu 或 Ti 背板增强热传导。 |
| 薄膜颜色如何? | 随成分变化从银灰到深灰色金属光泽。 |
所有钒钨靶材均采用:
真空密封防氧化
防震泡沫保护
干燥洁净储存
出口级硬盒/木箱运输
唯一批次编号管理
确保靶材运输安全、洁净无损。
钒钨靶材(VW)凭借其优异的高温稳定性、结合力、耐磨性与结构可靠性,在航空航天、微电子、工具涂层及功能薄膜中具有关键作用。苏州科跃材料科技有限公司可提供不同成分、不同规格及多种背板形式的 VW 靶材,满足科研与行业客户的高性能薄膜需求。
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