钒钨靶材(VW)

钒钨靶材(VW)

产品简介(Introduction)

钒钨靶材(VW)由钒(V)与钨(W)组成,是一种兼具高熔点、强韧性、优异耐腐蚀性和稳定电学性能的难熔金属合金靶材。V–W 合金在高温结构薄膜、硬质涂层、防护膜及功能金属薄膜中表现突出,由于钨的超高熔点和钒的优良延展性,使 VW 靶材成为高强度、高稳定性薄膜制备的核心材料之一。

钒的加入能够有效改善钨的脆性与裂纹敏感性,同时提升薄膜的结合力与结构完整性,使 VW 靶材特别适用于要求高强度、高温稳定性与低缺陷的薄膜应用。


产品详情(Detailed Description)

钒钨靶材采用高纯钒、钨原料,经冷等静压(CIP)成型,并通过真空烧结(Vacuum Sintering)或热等静压(HIP)进行致密化处理。靶材结构均匀、致密度高,可在高功率溅射条件下保持优异稳定性,且颗粒率低。

典型规格:

  • 纯度(Purity):99.9% – 99.99%

  • 成分比例(Composition):如 V10W90、V20W80、V30W70,可按需定制

  • 直径(Diameter):Ø25 – Ø300 mm(支持 1″、2″、3″ 常规尺寸)

  • 厚度(Thickness):3 – 6 mm

  • 致密度(Density):≥95%–98% TD

  • 工艺(Process):CIP + 真空烧结 / HIP

  • 背板(Bonding):可选 Cu/Ti 背板或铟焊

材料优势:

  • 极高耐热能力(W 熔点 3410 °C)

  • 高强度与良好的韧性平衡

  • 抗腐蚀性强,可承受酸、高温气氛

  • 薄膜颗粒率低、成膜平稳

  • 高硬度与抗磨性

  • 适合连续长时间溅射


应用领域(Applications)

钒钨靶材在高温、耐磨、结构应用中具有广泛用途,典型包括:

1. 高温薄膜(High-Temperature Coatings)

  • 结构防护膜

  • 耐热层

  • 航空航天部件薄膜

2. 耐磨与硬质涂层

  • 刀具涂层

  • 模具表面强化膜

  • 摩擦学表面保护层

3. 微电子与半导体

  • 金属阻挡层

  • 过渡层

  • 高强度结构薄膜

4. 防腐蚀薄膜(Corrosion-Resistant Coatings)

适用于:

  • 化工环境

  • 高温腐蚀介质

  • 氧化性环境薄膜

5. 科研与新材料开发

  • 金属玻璃体系研究

  • 难熔合金薄膜探索

  • 多层复合结构

支持 DC/RF 磁控溅射、反应溅射(Ar/O₂/N₂)、共溅射 工艺。


技术参数(Technical Parameters)

参数 范围 / 规格 重要性说明
纯度 99.9%–99.99% 薄膜纯度高、缺陷少
成分比例 V/W 可定制 调控硬度、应力与耐温性能
直径 Ø25–300 mm 适配主流溅射腔体
厚度 3–6 mm 决定寿命与沉积速率
致密度 ≥95–98% TD 保证薄膜均匀性、低颗粒
背板 Cu/Ti/In 焊 大尺寸推荐以提升散热

相关材料对比(Comparison)

材料 特性 典型应用
VW(钒钨) 高温稳定 + 高强度 + 良好韧性 结构膜、耐磨膜、防护膜
W(钨靶材) 超高硬度、熔点极高 耐热、硬质涂层
V(钒靶材) 高延展性、轻质 粘附层、过渡层
TiW(钛钨) 导电性更好 半导体阻挡层

常见问题(FAQ)

问题 答案
VW 靶材适合哪种溅射方式? DC/RF 均可,金属体系 DC 使用更广。
是否可提供不同 V/W 比例? 可以,10–90% 任意比例可定制。
VW 薄膜是否易开裂? 钒的加入可显著改善钨的脆性,抗裂性更强。
是否适合反应溅射? 可在 Ar/O₂/N₂ 中稳定沉积。
是否推荐加背板? 大尺寸靶材建议 Cu 或 Ti 背板增强热传导。
薄膜颜色如何? 随成分变化从银灰到深灰色金属光泽。

包装(Packaging)

所有钒钨靶材均采用:

  • 真空密封防氧化

  • 防震泡沫保护

  • 干燥洁净储存

  • 出口级硬盒/木箱运输

  • 唯一批次编号管理

确保靶材运输安全、洁净无损。


结论(Conclusion)

钒钨靶材(VW)凭借其优异的高温稳定性、结合力、耐磨性与结构可靠性,在航空航天、微电子、工具涂层及功能薄膜中具有关键作用。苏州科跃材料科技有限公司可提供不同成分、不同规格及多种背板形式的 VW 靶材,满足科研与行业客户的高性能薄膜需求。

如需技术参数或获取报价,请联系:
📩 sales@keyuematerials.com