钒管(V)

高纯钒管具有优异的高温强度与耐腐蚀性能,适用于真空系统、氢储能、电化学及核能装置。纯度可达99.95%,结构致密、表面光洁,是科研与能源领域的关键材料。

描述

钒管(V Tube)

产品简介

钒管(V Tube)是一种由高纯钒(Purity ≥ 99.9%)制成的难熔金属管材,具有优异的高温强度、抗氧化性与良好的延展性。钒是一种重要的合金元素,能在高温下保持结构稳定,并对氢气具有高溶解性和渗透性,因此被广泛用于氢储能、真空设备、薄膜沉积及核能工程中。高纯钒管还具备优良的电导率和化学惰性,是科研实验及先进制造中不可或缺的金属材料。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供的钒管采用高纯钒粉经真空熔炼—热等静压(HIP)—机械加工制备而成,晶粒均匀、结构致密、表面光滑。产品纯度高、杂质含量极低,可满足电子级、真空级及高温实验要求。

典型规格如下:

  • 纯度等级:99.5%、99.9%、99.95%

  • 外径范围:4 – 80 mm

  • 壁厚范围:0.5 – 6 mm

  • 长度:≤1000 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空熔炼 + HIP 致密化 + 精密机械加工 + 抛光

  • 表面状态:银灰色金属光泽 / 抛光态 / 去氧化膜

高纯钒管能在高温下保持优异的延展性与抗氧化性能,是真空系统和能源设备中理想的结构材料。

应用领域

钒管凭借其独特的物理与化学特性,被广泛应用于:

  • 真空与电子设备:用于高温导管、真空组件及电极套管。

  • 氢储能与燃料电池:作为氢扩散管与储氢材料载体。

  • 半导体与镀膜系统:用于靶材支撑、PVD腔体及反应结构件。

  • 核能与航天工业:用于耐辐照、耐腐蚀结构件。

  • 科研与实验设备:用于高温反应装置与金属材料研究。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.5% – 99.95% 高纯度确保真空与高温稳定性
密度 6.11 g/cm³ 结构致密、低杂质
熔点 1910 °C 高温稳定性强
抗拉强度 ≥400 MPa 优良机械性能
热导率 30 W/m·K 热传导性能适中
电导率 4.9 × 10⁶ S/m 良好导电性
工艺 真空熔炼 + HIP + 抛光 提高纯度与致密度

常见问题(FAQ)

问题 答案
钒管能否用于真空系统? 是的,钒的气体释放率极低,非常适合真空与高温环境。
是否可以加工为毛细管? 可以,最小内径可达0.5 mm。
钒管是否具有磁性? 具有弱磁性,纯度越高磁性越低。
是否可用于氢储能实验? 是的,钒对氢具有良好渗透与吸附性能。
可否焊接或连接? 可采用电子束焊、钎焊或真空焊。
可否与其他金属复合? 可与钛、钼、铬等共用形成合金结构。
是否提供检测报告? 每批产品附带化学成分与显微组织分析报告。
可否电抛光? 可提供镜面或电解抛光处理。
是否适合高温环境? 可长期工作于1800°C以下的真空或惰性气氛中。
是否支持定制? 支持科研及工业级尺寸定制。

包装与交付

所有钒管出厂前均经显微检测与纯度分析。产品采用真空密封包装并加防震、防潮保护层,外层使用防氧化木箱封装。可附带RoHS、REACH及COC文件,支持出口运输。

结论

钒管(V Tube)以其高熔点、优异的化学稳定性与氢吸附性能,成为科研、能源及真空设备中的关键金属材料。
如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.