金铜靶材(AuCu)

金铜靶材(AuCu)

产品简介(Introduction)

金铜靶材(AuCu)是一种由金(Au)与铜(Cu)组成的高性能贵金属合金靶材,以优异的导电性、耐腐蚀性、可控电阻率和卓越的金属光学特性而广泛用于电子器件、电极薄膜、微结构镀膜、装饰涂层以及高端光学镀膜。

Au 的化学稳定性与 Cu 的可调电学特性结合,使 AuCu 薄膜在可靠性、耐久性及光学表现上均有突出优势,是高端电子与光学器件中的重要靶材。


产品详情(Detailed Description)

苏州科跃材料科技有限公司采用高纯金与高纯铜原料,通过真空熔炼合金化、粉末冶金、CIP 成型及热压 / HIP 致密化工艺制备 AuCu 靶材,确保高致密度、均匀成分与良好的溅射稳定性。

典型规格:

  • 纯度:99.9%(3N)– 99.99%(4N)

  • 成分比例:常见 Au50Cu50、Au60Cu40、Au70Cu30(可定制)

  • 尺寸:Ø25–Ø200 mm(支持矩形靶、阶梯靶)

  • 厚度:2–6 mm

  • 密度:≥ 98–99% T.D.

  • 工艺:真空熔炼 + CIP + 热压 / HIP

  • 背板(Bonding):Cu / Ti / Mo,可提供铟焊

优势特性:

  • 金属光泽可调(偏金色 / 红金色)

  • 高耐蚀性与稳定电阻

  • 膜层致密、附着力强

  • 良好导电性

  • 在光学镀膜中具有稳定反射特性


应用领域(Applications)

金铜靶材广泛用于贵金属电子材料与光学薄膜领域,包括:

  • 电极薄膜(Electrodes)

  • 微电子互连层

  • 光学反射膜 / 装饰膜

  • 耐腐蚀功能薄膜

  • 贵金属装饰镀膜(奢侈品、仪器外观)

  • 传感器金属层(AuCu 电阻可调)

  • 高可靠性电接触层

AuCu 的电阻率比纯金更可控,更适合用于微纳电子器件。


技术参数(Technical Parameters)

参数 数值 / 范围 说明
纯度 99.9%–99.99% 高纯贵金属确保薄膜稳定性
Au:Cu 比例 可定制 影响颜色、电阻、耐蚀性
致密度 ≥98–99% T.D. 高致密度减少膜层缺陷
尺寸 Ø25–Ø200 mm 可适配多数溅射系统
厚度 2–6 mm 支持定制
背板 Cu / Ti / Mo / In焊 稳定散热,防止开裂

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 特性 应用
AuCu 稳定电阻、耐腐蚀、颜色可调 电极、光学镀膜、装饰
Au 化学稳定性最高 高端电极、光学反射膜
Cu 导电性好但易氧化 基础电子薄膜
AuAg 光学反射率更高 装饰膜、光学器件

常见问题(FAQ)

问题 答案
AuCu 可否用于 DC 和 RF 溅射? 两种方式均可,AuCu 溅射稳定性高。
Au:Cu 比例是否可定制? 可以根据电阻、颜色、膜层功能需求定制。
薄膜颜色如何? 一般呈金色或玫瑰金色,随 Cu 含量变化。
是否提供背板? 可选 Cu / Ti / Mo 背板并可铟焊。
是否附带 COA? 每批靶材均附有纯度、密度与外观测试报告。

包装与交付(Packaging)

  • 真空密封

  • 防震泡棉保护

  • 出口标准木箱

  • 每片带唯一批号与检测报告


结论(Conclusion)

金铜靶材(AuCu)具备稳定电阻、高耐腐蚀性与良好光学特性,是电子器件、金属电极、功能膜层及高端光学镀膜的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯、高致密、可定制比例的 AuCu 靶材,为科研与量产提供可靠保障。

如需报价,请联系:
📧 sales@keyuematerials.com