金粉(Au)

描述

金粉(Au)

产品简介

金粉(Gold Powder,化学式 Au)是一种高纯度贵金属粉末,以其 优异的导电性、抗氧化性与化学稳定性 而著称。
作为高性能功能材料,金粉广泛应用于 半导体封装、微电子焊接、光学镀膜、精密仪器与科研实验 等领域,是制造高可靠性电子与光电器件的关键原料之一。

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度(99.99%)金粉,粒径可选(纳米至微米级),支持定制球形、片状与树枝状结构,满足不同导电、催化与镀膜工艺需求。


产品详情

金粉呈 亮黄色金属粉末,光泽明亮,化学性质稳定,不与空气或水反应。
采用 化学还原法电解法 制备,具有高纯度与优异分散性。

主要特点:

  • 高导电率与高延展性

  • 耐腐蚀性极强,不被氧化或变色;

  • 优异反射性与热稳定性

  • 高纯度(≥99.99%),杂质含量极低;

  • 形貌可定制(球形 / 纳米 / 树枝状)


应用领域

  • ⚙️ 电子与半导体器件:用于金焊线、金锡焊料、芯片互连;

  • 💡 光学镀膜:用于高反射率红外镜与滤光器;

  • 🔬 催化与科研:用于贵金属催化剂与纳米结构研究;

  • 🔋 电极与导电浆料:用于高性能导电涂层与电接点;

  • 🧬 生物与医用材料:用于生物传感与金标免疫检测。


技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
化学式 Au 贵金属粉末
纯度 99.9% – 99.99% 光电级纯度
外观 亮黄色粉末 高纯特征
颗粒形貌 球形 / 片状 / 树枝状 可定制形态
平均粒径 0.1 – 10 μm(可提供纳米级 <100 nm) 影响导电性与分散性
密度 19.32 g/cm³ 高密度金属
熔点 1064°C 优异热稳定性
电导率 4.1×10⁷ S/m 稍低于银,但更稳定
热导率 317 W/m·K 优良导热性能
反射率 >95%(红外区域) 适用于光学镀膜

相关材料对比

材料 主要优势 典型应用
Au(金) 高导电、耐腐蚀、可焊性优 芯片互连、镀膜、电极
Ag(银) 导电性更高、成本低 导电浆料、焊料
Pt(铂) 耐高温、催化性强 电极、传感器
Cu(铜) 成本低、导电好 通用导线与电子件

常见问题(FAQ)

问题 答案
金粉的纯度是多少? 常见为 99.9% 或 99.99%。
是否导电? 是,金粉导电性极佳且长期稳定。
是否可用于镀膜? 可,用于反射镜、滤光片等光学薄膜。
是否可用于焊接? 可,与锡、铟等形成高可靠性焊料。
是否可制成纳米粉? 可提供 <100 nm 的纳米金粉。
是否易氧化? 不会氧化,表面稳定。
是否环保? 无毒、可回收,符合 RoHS 与 REACH 要求。
熔点是多少? 1064°C。
包装方式? 真空密封、防潮铝箔袋或玻璃瓶包装。
是否可用于科研? 是,常用于贵金属纳米研究与催化反应。

包装与交付

所有金粉出厂前均经过 ICP 杂质分析、XRD 晶相检测与粒径分布测试
采用 真空密封 + 防潮铝箔袋包装,保证粉体在运输与储存中的稳定性。
提供 1 g、5 g、10 g、100 g、1 kg 等规格,支持科研与工业批量交付。


结论

金粉凭借其 卓越的导电性、化学惰性与美观光泽,在电子、光学与高端科研中具有不可替代的地位。
苏州科跃材料科技有限公司可提供多形貌、多粒径的高纯金粉,满足精密制造与高科技应用需求。

📩 如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.