金管(Au)

描述

产品简介

金管(Au Tube)是一种由高纯金(≥99.9%)制成的贵金属管材,具有极佳的化学惰性、导电性与延展性。作为最稳定的金属之一,金在酸、碱及大多数化学介质中几乎不被腐蚀,因此金管广泛用于半导体、真空电子器件、精密分析仪器及生物医药领域。对于科研用途,金管是理想的化学反应容器、电极保护管及高纯输送管材。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司生产的金管采用高纯金锭经真空熔炼与多道冷拉工艺制成。产品壁厚均匀、尺寸精确、表面光洁,满足科研级和工业级应用。
主要规格如下:

  • 纯度等级:99.9%、99.99%、99.999%

  • 外径范围:0.5 – 50 mm

  • 壁厚范围:0.1 – 5 mm

  • 长度:≤1000 mm(可定制)

  • 制造工艺:真空熔炼 / 冷拉成型 / 精密退火

金管具有优异的延展性,可根据客户需求定制毛细管、短节管、套管等多种形式。对于高温应用,可选择强化晶粒结构的版本以提升机械稳定性。

应用领域

金管以其高纯度与惰性特性,在多个领域有着关键应用:

  • 半导体与电子工业:用于电极、引线管、微电子互连及晶圆测试设备。

  • 真空与分析仪器:作为气体取样或反应管,避免杂质污染。

  • 化学与催化研究:用于惰性反应环境中的载体或反应腔。

  • 生物医学工程:用于生物传感器和导电微管。

  • 贵金属装置与光电材料:应用于高反射镜与电触点。

技术参数

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.9% – 99.999% 纯度越高,化学稳定性越佳
外径 0.5 – 50 mm 可根据实验设备设计
壁厚 0.1 – 5 mm 精密控制,确保均匀性
密度 19.32 g/cm³ 保证结构强度与导电性
电导率 45.5 × 10⁶ S/m 优异的电性能
熔点 1064 °C 适合高温环境
工艺 真空熔炼 + 冷拉 + 退火 提高纯度与可加工性

常见问题(FAQ)

问题 答案
金管能用于高温反应吗? 可以,金在高温下具有良好的稳定性,但建议在惰性气氛或真空中使用。
是否可以制作毛细管? 可以,最小内径可达 0.1 mm,适用于精密导流或微流控系统。
可否提供定制尺寸或图纸加工? 是的,我们可按客户要求加工长度、直径及端口结构。
金管是否具磁性? 金为非磁性材料,可用于磁场敏感实验。
是否会与酸反应? 除王水外,金几乎不与任何酸反应,具极高耐蚀性。
表面是否需要抛光? 可提供镜面或亚光处理,满足不同反射率需求。
金管能否焊接? 可以使用惰性气氛下的激光或电阻焊。
可用于真空仪器吗? 是的,金管表面光洁且无气孔,非常适合真空环境。
可否提供成分分析报告? 所有产品均附带ICP检测及密度检测报告。
包装方式? 采用惰性气体密封与防震包装,确保运输安全。

包装与交付

每根金管均经光学检测与成分分析,附唯一追溯编号。产品使用真空密封袋包装,并放置在防震盒或木箱中,确保全球运输安全。

结论

金管(Au Tube)凭借卓越的导电性、耐腐蚀性与高纯度特性,是科研实验和高端制造领域的理想贵金属材料。
如需更多技术参数或报价,请联系:sales@keyuematerials.com

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常见问题

Sputtering targets are materials used in thin-film deposition processes to create coatings on substrates. They are used in industries like semiconductors, optics, photovoltaics, and electronics.

Evaporation materials are used in Physical Vapor Deposition (PVD) processes, where materials are heated and evaporated to form a thin film on a substrate. These are critical for applications in optics, wear protection, and decorative coatings.

Boat crucibles are used as containers for evaporation materials during PVD processes. They help to uniformly evaporate materials onto the substrate for thin film formation.

Sputtering uses energetic particles to eject material from a target, while evaporation involves heating a material until it vaporizes and deposits on a substrate. Both are common methods in Physical Vapor Deposition (PVD) for creating thin films.

Consider the material composition, purity, target size, and application-specific requirements such as the thickness and uniformity of the film.

Yes, we offer customized sputtering targets, evaporation materials, and crucibles to meet specific customer requirements for size, material composition, and purity.

Yes, we can assist in selecting the most suitable material based on your application, whether it’s for optical coatings, semiconductor fabrication, or decorative finishes.

Yes, we offer both bulk and small quantities of sputtering targets, evaporation materials, and spherical powders to support research, prototyping, and development projects.