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碳化铬靶材(Chromium Carbide Sputtering Target,CrC)是一种优异的耐磨、耐腐蚀、高硬度及高温稳定性的陶瓷靶材,常用于制备抗腐蚀、防磨损和功能性薄膜。CrC 具有较高的熔点和稳定的碳化物结构,可形成致密、附着力强、耐化学腐蚀的功能薄膜,是工具涂层、保护层和光电材料的重要薄膜源材料。
CrC 的薄膜表现出优异的机械强度、化学稳定性和摩擦学特性,在工业应用与科研开发中均具有重要价值。
苏州科跃材料科技有限公司提供高致密、高纯度 CrC 靶材,具有以下特点:
纯度:
99%–99.9%(2N–3N)
尺寸范围:
圆形靶:直径 25–300 mm
方形、矩形靶:按需定制
厚度:3–6 mm,可按设备要求定制
制造工艺:
亚微米级高纯 CrC 粉末
真空热压烧结(HP)成型
热等静压(HIP)进一步提高致密度(≥95%–99% TD)
表面精细研磨(Ra < 0.4 μm)
高致密 CrC 靶材可有效减少溅射颗粒,提高膜层的均匀性与可靠性。
背板结合(可选):
Cu 背板
Mo 背板
铟焊(Indium Bonding)
用于陶瓷靶材散热增强与应力管理,提升高功率溅射稳定性。
CrC 靶材适用于 DC、RF、HiPIMS、IBS 等多种磁控溅射工艺。
碳化铬靶材因其优秀的抗腐蚀性与耐磨性,广泛应用于:
化工设备保护膜
高腐蚀性环境中的功能层
高摩擦工况下的耐磨层
刀具、冲压模具
高负载金属加工部件
提升使用寿命与摩擦性能
金属碳化物功能膜
导电保护层
耐腐蚀阻挡层
黑色吸收膜
防腐蚀光学结构膜
多层复合光学薄膜
防腐蚀高温保护层
耐磨高温功能膜
CrC 基复合结构(CrC/CrN、CrC/TiN 等)
表面工程与摩擦学研究
高耐磨金属碳化物体系研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99%–99.9% | 决定膜层稳定性与纯净度 |
| 致密度 | ≥95%–99% TD | 提高薄膜质量与均匀性 |
| 直径 | 25–300 mm | 满足各种溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 决定溅射速率与靶材寿命 |
| 硬度 | HV 1800–2400 | 提供高耐磨防护性能 |
| 背板 | Cu/Mo/Indium Bonded | 降低陶瓷爆靶风险,提高散热能力 |
| 材料 | 特点 | 应用 |
|---|---|---|
| CrC(碳化铬) | 强耐腐蚀性 + 良好耐磨性 | 防腐膜、耐磨工具膜 |
| WC(碳化钨) | 极致硬度 | 工具涂层、耐磨膜 |
| TiC(碳化钛) | 成膜性好、成本低 | 装饰膜、工具膜 |
| NbC(碳化铌) | 耐高温、稳定性佳 | 半导体阻挡层、功能膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| CrC 靶材是陶瓷还是金属? | 属于陶瓷类碳化物靶材,具有高硬度和耐腐蚀特性。 |
| 是否适合 DC 溅射? | 可用于 DC,但 RF 更稳定。 |
| CrC 是否耐腐蚀? | 是,其化学稳定性优越。 |
| 可否提供大尺寸靶材? | 最大可达 Φ300 mm。 |
| CrC 薄膜颜色? | 通常呈深灰或黑色,高吸收性。 |
| 是否支持共溅射? | 可与 CrN、TiN、ZrN 等形成复合膜。 |
| 是否易爆靶? | 使用 Cu/Mo 背板可极大降低风险。 |
| 是否提供 COA? | 可提供纯度、致密度、相结构等检测信息。 |
氩气或者真空封装
防静电袋保护
防震泡沫支撑
出口级加固包装
附 COA、批号与溯源标签
确保运输与存储过程中的稳定性与洁净度。
碳化铬靶材凭借其耐磨性、耐腐蚀性与优异结构稳定性,可用于制备高可靠性功能性薄膜,是硬质涂层、光学保护层、电子材料和科研开发中的关键材料。高纯、高致密 CrC 靶材可显著提升膜层质量,是先进薄膜沉积的优良选择。
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