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碳化铪靶材(Hafnium Carbide Sputtering Target,HfC)是一种熔点极高(约 3890°C,为目前已知熔点最高的二元化合物之一)、硬度优异、耐腐蚀性出色且具有优良高温稳定性的陶瓷靶材。
HfC 作为超高温陶瓷(UHTC)材料的代表,广泛应用于航空航天防护层、耐烧蚀涂层、机械强化膜、高温电子材料以及高性能功能薄膜制备。
HfC 薄膜结构致密、机械性能强、电学性能可调,在极端环境材料与尖端科技领域具有重要作用。
苏州科跃材料科技有限公司提供高致密度、高纯度的碳化铪(HfC)靶材,具有以下工艺和性能优势:
纯度:
99%–99.9%(2N–3N)
靶材尺寸:
圆形靶:直径 25–300 mm
方形/矩形靶:可按图纸定制
厚度:3–6 mm,可根据设备要求调整
制造工艺:
使用超细 HfC 粉末(纳米或亚微米级)
真空热压烧结(HP)成型
热等静压(HIP)进一步提高致密度(≥95%–99% TD)
表面精密研磨(Ra < 0.4 μm)
高致密结构减少溅射颗粒,提高膜层均匀性与重复性。
背板结合(可选):
铜背板(Cu)
钼背板(Mo)
铟焊(Indium Bonding)
可有效降低陶瓷靶材热应力,提升高功率运行稳定性。
HfC 靶材兼具高硬度和极高熔点,可应对高温溅射环境,适用于 DC、RF、HiPIMS 和离子束溅射等工艺。
碳化铪靶材在高性能薄膜领域应用广泛,尤其适用于极端高温和强腐蚀环境:
超高温防护涂层(UHTC Coatings)
再入飞行器、火箭喷管保护层
燃烧室热防护膜层
高温电子器件
碳化物复合功能膜
金属间化合物阻挡层
超硬涂层
高负载耐磨表面强化涂层
耐腐蚀机械部件保护膜
红外吸收膜
光学保护层
结构致密的屏蔽膜
高温电极薄膜
先进涂层技术研究
超高温陶瓷材料体系开发(HfC–TaC、HfC–SiC 等)
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99%–99.9% | 决定薄膜的稳定性与缺陷水平 |
| 致密度 | ≥95%–99% TD | 高致密减少掉屑与颗粒,提高膜层质量 |
| 熔点 | ≈3890°C | 世界最高熔点之一,适合极端高温应用 |
| 直径 | 25–300 mm | 覆盖主流设备需求 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射寿命与速率 |
| 硬度 | HV 2500–3000 | 适用于耐磨、高强度涂层 |
| 背板 | Cu/Mo/Indium Bonded | 提升散热并减少陶瓷类爆靶风险 |
| 材料 | 特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| HfC(碳化铪) | 世界最高熔点之一,极端高温稳定 | 航空航天、高温保护膜 |
| TaC(碳化钽) | 超高熔点,与 HfC 常组成复合体 | 超高温结构、防护层 |
| ZrC(碳化锆) | 高温稳定,光学性能佳 | 光学膜、高温结构材料 |
| TiC(碳化钛) | 高硬度、成本低 | 工具涂层、装饰膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| HfC 靶材适合哪种溅射方式? | DC/RF/HiPIMS/IBS 均可。 |
| HfC 是否容易爆靶? | 陶瓷靶材建议使用 Cu/Mo 背板以降低风险。 |
| 能否提供大尺寸靶材? | 可定制至 Φ300 mm。 |
| HfC 薄膜的耐温能力如何? | 可在极端高温环境中保持结构稳定。 |
| HfC 是否适合光学应用? | 是,特别适用于红外吸收与屏蔽膜层。 |
| 可否提供复合靶材? | 可提供 HfC–TaC、HfC–SiC 等多组分靶材。 |
| HfC 膜层的电学性能如何? | 电阻可调,取决于工艺参数与薄膜结构。 |
| 是否提供 COA? | 可提供纯度、致密度、显微结构、相分析等报告。 |
干燥氩气封装或真空密封
防静电袋 + 防震珍珠棉
出口级木箱或缓冲包装
附 COA、批号与溯源标签
确保运输和储存过程中的洁净、安全及稳定性。
碳化铪靶材作为超高温陶瓷材料的代表,具有卓越的热稳定性、机械强度和耐腐蚀性能,是航空航天、高温电子、功能薄膜以及最前沿材料研究的关键靶材。高纯、高致密 HfC 靶材可显著提升薄膜的稳定性、性能和重复性,是高端薄膜沉积不可或缺的重要材料。
如需获取报价或技术支持,请联系:
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属(3N~6N)、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案,服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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