碳化铌靶材（NbC）

产品简介（Introduction）

碳化铌靶材（Niobium Carbide Sputtering Target，NbC）是一种高熔点、高硬度、耐腐蚀性强且兼具良好电学与热学性能的陶瓷靶材。NbC 具有稳定的立方 NaCl 晶体结构，熔点高达 ≈3500°C，广泛用于硬质涂层、耐磨薄膜、光学功能膜、半导体阻挡层以及先进材料研究。

NbC 薄膜特点包括：结构致密、耐磨耗、附着力强、稳定性高、电学性能可调，使其成为高端制造行业中具有战略意义的功能陶瓷材料。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司提供高密度、高纯度的碳化铌靶材，具有以下优势：

• 纯度：
  99%–99.9%（2N–3N）

• 尺寸规格：

  • 圆形靶：直径 25–300 mm

  • 方形、矩形靶：按需求定制

  • 厚度：3–6 mm（可定制）

• 制造工艺：

  • 纳米/亚微米级 NbC 超细粉

  • 真空热压烧结（HP）

  • 热等静压（HIP），可实现 ≥95%–99% TD 的超高致密度

  • 表面高精度研磨（Ra < 0.4 μm）
    高致密结构可减少溅射颗粒，提高薄膜均匀性与工艺重复性。

• 背板结合（可选）：

  • 铜背板（Cu）

  • 钼背板（Mo）

  • 铟焊（In-Bonding）
    用于降低陶瓷靶材的热应力风险，提升高功率运行稳定性。

NbC 靶材适配 DC、RF、IBS、HiPIMS 等先进薄膜工艺。

应用领域（Applications）

碳化铌靶材在半导体、工具涂层、光电材料和高温防护领域中应用广泛：

硬质涂层（PVD Coatings）

• 刀具、模具类耐磨薄膜

• 硬面材料强化层

• 高负载、冲击环境耐磨膜

半导体与电子功能薄膜

• 电极保护膜

• 阻挡层（Barrier Layer）

• 金属碳化物复合薄膜（如 NbC–TiC、NbC–CrN）

光学与光电领域

• 吸收膜

• 光学屏蔽膜

• 多层复合光学膜结构

高温与防护材料

• 极端环境防护膜

• 航空航天结构涂层

• 耐腐蚀、高温稳定薄膜

科学研究与材料开发

• 复合膜结构（NbC/TiN、NbC/WC 等）

• 材料电阻、摩擦性能调控

• 电子结构与表面工程研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

• 真空封装或氩气保护

• 防静电袋 + 防震泡沫

• 出口级加固纸箱/木箱

• 附唯一溯源码、COA 检测报告

确保运输与长期储存过程中的清洁与安全性。

结论（Conclusion）

碳化铌靶材凭借其高硬度、稳定电学性能、卓越耐磨性和高温稳定性，被广泛用于电子功能薄膜、工具涂层、光学结构膜及科研材料探索。高纯、高致密 NbC 靶材可显著提升薄膜质量，是高端薄膜沉积工艺的重要材料选择。

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