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碳化铁靶材(Iron Carbide Sputtering Target,FeC)是一种兼具金属特性与碳化物性能的功能靶材材料。与传统陶瓷靶材不同,FeC 在保持一定硬度与耐磨性的同时,还具备良好电导率和磁性调控特性,广泛用于磁性薄膜、硬质涂层、功能性电极膜、光吸收层及科研材料体系。
FeC 的结构与性能使其在磁记录材料、传感器、微电子器件、涂层工程以及金属碳化物体系研究中具有重要价值。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度 FeC 靶材,特点如下:
纯度:
99%–99.9%(2N–3N)
规格范围:
圆形靶:直径 25–300 mm
方形 / 矩形靶:按需定制
厚度:3–6 mm(可根据设备要求调整)
制造工艺:
超细 FeC 粉末(亚微米级)
真空热压烧结(HP)
热等静压(HIP)可达 ≥95%–98% TD
高精度研磨抛光(Ra < 0.4 μm)
高致密靶材可显著提升溅射稳定性与薄膜的一致性,减少颗粒脱落。
背板结合(可选):
Cu 背板
Mo 背板
铟焊(Indium Bonding)
用于陶瓷与碳化物类靶材的热管理与防爆靶设计。
FeC 兼具一定磁性与电导性,非常适用于 DC/RF 溅射、IBS、HiPIMS 等多种薄膜设备。
碳化铁靶材具有金属 + 碳化物的特殊组合性能,在以下领域应用广泛:
磁存储材料
自旋电子学(Spintronics)
磁传感器薄膜
铁基功能涂层
工具涂层
机械零部件防磨损涂层
摩擦学薄膜
电学调控薄膜
功能性阻挡层
金属碳化物复合薄膜结构(FeC/TiN、FeC/CrN 等)
电极材料
铁碳催化体系薄膜
电化学功能膜
暗色吸收膜
功能性光学表面工程
金属碳化物相结构研究
多层复合薄膜研究
磁学、电学调控实验
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99%–99.9% | 决定薄膜纯净度与性能稳定性 |
| 致密度 | ≥95%–98% TD | 直接影响颗粒率与膜层一致性 |
| 直径 | 25–300 mm | 覆盖主流溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 决定溅射寿命及沉积效率 |
| 导电性 | 良好 | 适用于 DC/RF 溅射 |
| 磁性 | 可调 | 适用于磁性薄膜研究 |
| 背板结合 | Cu/Mo/Indium Bonded | 增强散热与结构完整性 |
| 材料 | 优势特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| FeC(碳化铁) | 金属性能 + 碳化物硬度 + 可调磁性 | 磁膜、电子薄膜、耐磨涂层 |
| TiC(碳化钛) | 高硬度 + 成膜性好 | 工具涂层、装饰膜 |
| WC(碳化钨) | 极致硬度与耐磨性 | 刀具涂层、高压机械膜 |
| MoC(碳化钼) | 导电性高、电催化性能优异 | 电极膜、电化学薄膜 |
| NbC(碳化铌) | 高耐温、高稳定性 | 半导体、阻挡层 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| FeC 靶材是陶瓷还是金属? | 属于金属-碳化物复合类,兼具硬度与导电性。 |
| FeC 可用于 DC 溅射吗? | 可以,导电性对 DC 友好。 |
| 是否具有磁性? | 是,磁性可随沉积条件变化。 |
| 是否容易爆靶? | 建议使用 Cu/Mo 背板降低热应力。 |
| 是否可以大尺寸化? | 最大可定制至 Φ300 mm。 |
| FeC 膜层颜色? | 通常为深灰至黑色,高致密度结构。 |
| 可否共溅射? | 可,与 TiN、CrN、FeOx 等组合材料良好。 |
| 是否提供 COA? | 可提供纯度、显微结构、密度等检测。 |
真空封装或氩气保护
防静电袋封装
防震泡沫
出口级加固箱
附唯一批次号与 COA 报告
确保在运输和长期储存过程中保持洁净、安全与无损伤。
碳化铁靶材因其优良的机械性能、电学特性与磁学潜力,可广泛用于磁性薄膜、硬质涂层、电子功能膜与科研探索中。采用高纯、高致密的 FeC 靶材能显著提升薄膜质量、稳定性与工艺重复性,是薄膜沉积的重要材料之一。
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属(3N~6N)、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案,服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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