碳化钼蒸发材料(MoC)

碳化钼蒸发材料(Molybdenum Carbide Evaporation Material,MoC)是一种由钼(Mo)与碳(C)组成的高熔点过渡金属碳化物蒸发材料,广泛应用于真空热蒸发与电子束蒸发(E-beam Evaporation)等 PVD 薄膜沉积工艺中。
MoC 兼具高熔点、良好的导电性、优异的催化活性及出色的高温稳定性,在功能薄膜、耐高温涂层与能源相关材料研究中具有重要地位。

在需要薄膜同时满足高温可靠性、电学功能与结构稳定性的应用场景中,碳化钼是一类性能平衡度高、科研与工程兼顾的蒸发材料选择。

产品详情(Detailed Description)

碳化钼蒸发材料以高纯钼源和高纯碳源为原料,通过受控碳化反应与高温烧结工艺制备,形成稳定的 Mo–C 化合物相(常见为 MoC 或 Mo₂C)。在原料提纯、化学计量控制、晶相调控及致密化处理全过程中,严格控制氧、氮及游离碳含量,以确保蒸发过程中成分稳定、蒸发行为可预测、薄膜结构重复性高

  • 纯度等级:99.5% – 99.9%(科研与工程常用)

  • 材料体系:Mo–C(碳化钼,MoC / Mo₂C)

  • 物理特性:高熔点、高硬度、良好耐磨性

  • 电学特性:优良导电性,适合电极与功能层

  • 化学特性:耐腐蚀性好,高温下结构稳定

  • 成膜优势:膜层致密、应力可控、稳定性高

  • 供货形态:颗粒 / 块状 / 压片 / 定制形态,适配电子束坩埚及高温蒸发源

由于 MoC 熔点较高,电子束蒸发是实现稳定沉积与高致密薄膜的推荐方式。

应用领域(Applications)

  • 高温防护薄膜:高温器件与结构件表面保护

  • 导电与功能薄膜:电极层、耐热导电层

  • 催化与能源材料研究:氢析出反应(HER)相关薄膜

  • 耐磨与功能涂层:机械与功能部件表面强化

  • 多层复合膜系:与 MoN、TiC、VC、ZrC 等材料组合

  • 科研与实验室应用:过渡金属碳化物薄膜与界面研究

技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
化学组成 MoC / Mo₂C 决定热学与电学性能
纯度 99.5% – 99.9% 控制薄膜缺陷
熔点 >2600 °C 适合高温应用
电导性 优良 功能与导电薄膜
供货形态 颗粒 / 块状 / 压片 适配高温蒸发设备
蒸发方式 电子束蒸发(推荐) 稳定高熔点材料

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要优势 典型应用
碳化钼蒸发材料(MoC) 导电性好、催化活性 功能/能源薄膜
碳化钛(TiC) 工艺成熟、耐磨 工程涂层
碳化钒(VC) 高硬度、导电 功能耐磨膜
碳化钨(WC) 极高硬度 重载耐磨涂层

常见问题(FAQ)

Q1:MoC 适合哪种沉积方式?
A:推荐使用电子束蒸发,更利于高熔点材料的稳定沉积。

Q2:MoC 薄膜的核心优势是什么?
A:良好的导电性、高温稳定性以及潜在催化活性。

Q3:是否适合能源相关研究?
A:是的,MoC / Mo₂C 在电催化领域具有广泛研究基础。

Q4:是否可用于高温环境?
A:可以,在高温条件下结构稳定、性能可靠。

Q5:膜层附着力如何?
A:在 Si、金属及陶瓷基底上具有良好附着性能。

Q6:是否可与其他材料形成多层膜?
A:可以,常用于复合或梯度功能膜设计。

Q7:蒸发过程中是否容易飞溅?
A:在合理控制电子束功率与升温速率下,蒸发过程稳定。

Q8:应用更偏科研还是工程?
A:兼顾科研探索与工程型功能薄膜应用。

包装与交付(Packaging)

所有碳化钼蒸发材料在出厂前均经过成分与外观检测,并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲与出口级包装方案,确保运输与储存过程中材料的成分稳定性与使用可靠性

结论(Conclusion)

碳化钼蒸发材料(MoC)凭借其优良的导电性能、高温稳定性以及在功能与能源材料领域中的独特优势,在过渡金属碳化物薄膜体系中占据重要位置。对于需要在高温或电学功能条件下实现稳定薄膜沉积的真空蒸发应用,MoC 是一类性能均衡、科研与工程价值兼具的专业蒸发材料选择

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