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碳化钛靶材(Titanium Carbide Sputtering Target,TiC)是一种兼具高硬度、高熔点、优异耐腐蚀性与稳定电学性能的陶瓷靶材。TiC 具有典型的 NaCl 型立方晶体结构,硬度可达 HV 3000 左右,熔点超过 3000°C,是硬质涂层、耐磨膜、导电保护膜以及光电功能膜的重要沉积材料。
TiC 薄膜具有高致密性、耐磨性强、附着力好、摩擦系数低、电学可调等特点,被广泛应用于工具涂层、装饰涂层、MEMS、航空航天以及先进材料研究领域。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯、高致密碳化钛靶材,特点包括:
纯度:
99%–99.9%(2N–3N)
规格范围:
圆形靶:直径 25–300 mm
方形/矩形靶:可按图纸定制
厚度:3–6 mm(可定制)
制造工艺:
超细 TiC 粉末(纳米或亚微米级)
真空热压烧结(HP)
热等静压(HIP)提高致密度(≥95%–99% TD)
高精度抛磨(Ra < 0.4 μm)
高致密结构可显著提升薄膜均匀性并减少颗粒脱落。
背板结合(可选):
Cu 背板
Mo 背板
铟焊(Indium Bonding)
增强散热效率,减少热应力导致的陶瓷靶材开裂。
TiC 靶材适用于 DC/RF 磁控溅射、IBS、HiPIMS 等先进薄膜沉积技术。
碳化钛靶材广泛用于需要高硬度、高耐磨与高稳定性的薄膜应用,包括:
刀具涂层(铣刀、钻头、车刀)
模具与冲压部件的耐磨膜层
高硬度、高耐磨的工业零部件保护膜
表面呈金属灰、深灰等质感
广泛用于五金、汽车内饰、消费电子外壳
TiC 导电薄膜
阻挡层材料(Barrier Layer)
功能性金属碳化物复合膜
红外吸收膜
功能性光学膜
屏蔽结构薄膜
高温结构涂层
耐腐蚀与耐磨复合膜
金属碳化物材料体系研究
TiC 基复合结构(TiC/TiN、TiC/CrN 等)
高硬度、可调电学薄膜研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99%–99.9% | 影响膜层稳定性与缺陷率 |
| 致密度 | ≥95%–99% TD | 高致密减少颗粒、提升膜层质量 |
| 直径 | 25–300 mm | 适配常用溅射腔体 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响靶材寿命与溅射效率 |
| 硬度 | HV 2800–3200 | 高耐磨性,广泛用于工具涂层 |
| 背板 | Cu/Mo/Indium Bonded | 提升散热与结构强度 |
| 材料 | 特点优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| TiC(碳化钛) | 兼具高硬度 + 成膜性好 + 成本适中 | 工具涂层、装饰膜、电子薄膜 |
| WC(碳化钨) | 极高硬度、耐磨性最佳 | 工具涂层、耐磨膜 |
| TaC(碳化钽) | 极高熔点、耐高温性最强 | 航空航天、高温结构膜 |
| ZrC(碳化锆) | 高温氧化稳定性优异 | 光学膜、高温防护膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| TiC 靶材适用于 DC 还是 RF? | 两者均可,RF 对陶瓷靶材更友好。 |
| TiC 是否易爆靶? | 陶瓷靶材建议搭配背板并避免骤升功率。 |
| 膜层硬度如何? | TiC 薄膜硬度高,可显著提升耐磨性。 |
| 能做大尺寸靶材吗? | 可定制 Φ300 mm。 |
| TiC 是否适合装饰镀膜? | 是,可形成金属灰、深灰质感薄膜。 |
| 膜层光滑度是否好? | 高致密靶材可形成低颗粒薄膜。 |
| 是否可与其他材料共溅射? | 可与 TiN、CrN、ZrN 等组合形成复合膜。 |
| 是否提供 COA? | 可提供纯度/密度/相结构检测报告。 |
真空密封 / 氩气保护
防静电袋 + 防震泡沫
出口级纸箱或木箱
唯一序列号 + COA 检测报告
确保储存与运输中的洁净度、安全性与稳定性。
碳化钛靶材凭借其卓越硬度、优良化学稳定性、耐磨性与广泛的工艺兼容性,已成为硬质涂层、电子薄膜、装饰镀膜及前沿材料研究的重要材料。高致密、高纯度 TiC 靶材可显著提升膜层性能,是高端薄膜沉积应用的可靠选择。
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