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碳化钒蒸发材料采用高纯钒源与高纯碳源,通过受控碳化反应及高温烧结工艺制备形成致密稳定的 V–C 化合物相(VC)。在原料纯化、相组成控制、致密化处理与最终封装全过程中,严格控制氧、氮等杂质含量,以确保蒸发过程中化学计量稳定、蒸发行为可控、薄膜结构一致性高。
纯度等级:99.5% – 99.9%(科研与工程常用)
材料体系:V–C(碳化钒,VC)
物理特性:高熔点、高硬度、耐磨性优异
电学特性:良好导电性,适合功能薄膜
成膜优势:膜层致密、结构稳定、耐高温
供货形态:颗粒 / 块状 / 压片 / 定制形态,适配电子束坩埚与高温蒸发源
由于 VC 熔点较高,电子束蒸发通常更有利于获得稳定、可重复的沉积过程。
耐磨与硬质涂层:刀具、模具与机械部件表面
高温防护薄膜:高温工况下的功能保护层
导电功能薄膜:耐热导电层与电极相关研究
能源与催化相关材料研究
多层复合膜系:与 TiC、ZrC、VN、VCN 等材料组合
科研与实验室应用:过渡金属碳化物薄膜研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 化学组成 | VC | 决定机械与热学性能 |
| 纯度 | 99.5% – 99.9% | 控制薄膜缺陷 |
| 熔点 | >2800 °C | 适合高温应用 |
| 电导性 | 良好 | 功能与导电薄膜 |
| 供货形态 | 颗粒 / 块状 / 压片 | 适配高温蒸发设备 |
| 蒸发方式 | 电子束蒸发(推荐) | 稳定高熔点材料 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 碳化钒蒸发材料(VC) | 高硬度、耐磨 | 硬质功能薄膜 |
| 碳化钛(TiC) | 工艺成熟 | 工业耐磨涂层 |
| 碳化锆(ZrC) | 超高温性能 | 高温防护薄膜 |
| 氮化钒(VN) | 导电性好 | 功能薄膜 |
Q1:VC 适合哪种沉积方式?
A:推荐使用电子束蒸发,更易实现稳定蒸发与致密成膜。
Q2:VC 薄膜的核心优势是什么?
A:高硬度、耐磨性强,同时具备良好导电性。
Q3:是否适合高温环境应用?
A:是的,VC 在高温条件下结构稳定。
Q4:是否可用于导电薄膜?
A:可以,常用于耐热导电或功能层研究。
Q5:膜层附着力如何?
A:在金属、Si、陶瓷等基底上具有良好附着性能。
Q6:是否可与其他材料形成复合膜?
A:可以,常用于多层或梯度结构设计。
Q7:蒸发过程中是否容易飞溅?
A:在合理控制电子束功率下,蒸发过程稳定。
Q8:应用更偏科研还是工程?
A:同时适用于科研探索与工程型功能薄膜研究。
所有碳化钒蒸发材料在出厂前均经过成分与外观检测,并贴附唯一追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲及出口级包装方案,确保运输与储存过程中材料的成分稳定性与使用可靠性。
碳化钒蒸发材料(VC)凭借其优异的耐磨性、高温稳定性及良好的导电性能,在硬质功能薄膜、高温防护与导电薄膜领域中展现出明确应用价值。对于需要在苛刻条件下实现结构强化与功能集成的真空蒸发薄膜制备,VC 是一类性能均衡、工程潜力突出的专业蒸发材料选择。
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